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光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工威廉希尔官方网站。

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光刻威廉希尔官方网站

芯片是如何制造的

中兴事件让我们认识了中国的“芯”痛，那么小小芯片为什么这么难制造？今天小编给你介绍一下流程。

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半导体术语中英文对照大全！

芯片圈（微信：xinpianquan）

2018-08-04 标签：半导体光刻显影 2.9万 0

详细解析芯片光刻的步骤

刻的基本原理是利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。

2018-01-09 标签：芯片光刻 1.7万 0

cmp是什么意思 cmp工艺原理

CMP 主要负责对晶圆表面实现平坦化。晶圆制造前道加工环节主要包括7个相互独立的工艺流程：光刻、刻蚀、薄膜生长、扩散、离子注入、化学机械抛光、金属化 C...

2023-07-18 标签：光刻 CMP 晶圆制造 1.6万 1

芯片光刻的工序流程详细资料讲解

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2022-08-29 标签：光刻光刻机 1.1万 0

芯片制作环节光刻的详细流程详解

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刻蚀机是干什么用的刻蚀机和光刻机的区别

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Mattson利用欧洲的IMEC为低k/铜工艺开发光刻胶去除威廉希尔官方网站

Mattson Technology Inc.表示，它正与欧洲IMEC合作位于比利时鲁汶的微电子研发中心共同开发新的光刻胶和残留物去除工艺。

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微流控芯片的发展及制造工艺介绍

微全分析系统的概念是在1990年首欠由瑞士Ciba2Geigy公司的Manz与Widmer提出的，当时主要强调了分析系统的微与全，及微管道网络的MEMS...

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光学光刻和EUV光刻中的掩膜与晶圆形貌效应

对先进光刻掩膜光衍射的精密EMF模拟已成为预知光刻模拟的必做工作。

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一文解析DARM工艺流程

DRAM（动态随机存取存储器）的工艺流程包括多个关键步骤。

2024-04-05 标签：电容晶圆存储单元 5523 0

3D晶圆键合装备的工艺过程及研发现状

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