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中科院半导体所

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酒精检测仪是如何识别酒驾的

酒驾是一种极具危险性和社会危害性的行为。酒精对人体的影响较为复杂,且在驾驶过程中会严重影响驾驶者的反....
的头像 中科院半导体所 发表于 12-10 09:47 167次阅读
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人工智能发展需要新的芯片威廉希尔官方网站

人工智能的繁荣发展需要新的芯片威廉希尔官方网站 。   1997年,IBM的“深蓝”超级计算机打败了国际象棋世界冠....
的头像 中科院半导体所 发表于 12-07 09:49 454次阅读
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选择性沉积威廉希尔官方网站 介绍

选择性沉积威廉希尔官方网站 可以分为按需沉积与按需材料工艺两种形式。 随着芯片制造威廉希尔官方网站 的不断进步,制造更小、更快且....
的头像 中科院半导体所 发表于 12-07 09:45 225次阅读
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硅抛光片的主要威廉希尔官方网站 指标、测试标准及硅片加工参数的测量方法

本文主要讨论硅抛光片的主要威廉希尔官方网站 指标、测试标准以及硅片主要机械加工参数的测量方法。 硅片机械加工参数 ....
的头像 中科院半导体所 发表于 12-07 09:39 173次阅读
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铁磁性的概念、产生机理、应用

本文简单介绍铁磁性的概念、产生机理、应用等内容。 铁磁性是一种最引人入胜且被广泛研究的磁现象,指某些....
的头像 中科院半导体所 发表于 12-06 16:36 498次阅读

多晶氧化物中的晶界和异质界面概念、形成机理以及如何表征

本文介绍了多晶氧化物中的晶界和异质界面的概念、形成机理以及如何表征。 固-固界面是材料科学领域的核心....
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芯片制造过程中的两种刻蚀方法

本文简单介绍了芯片制造过程中的两种刻蚀方法   刻蚀(Etch)是芯片制造过程中相当重要的步骤。 刻....
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Monitor Wafer的核心功能、特点、生产流程和应用

  文本简单介绍了非生产晶圆Monitor Wafer的核心功能、特点、生产流程和应用。 Monit....
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不同材料间的焊接冶金特性

本文简单介绍了不同材料间的焊接冶金特性。 不同材料间的焊接冶金特性是超声波压焊威廉希尔官方网站 中需要重点关注的问....
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菱形石墨烯结构及其中的量子反常霍尔效应

本文简单介绍了菱形石墨烯莫尔结构以及该材料中的量子反常霍尔效应以及未来的应用方向。 莫尔材料的出现开....
的头像 中科院半导体所 发表于 12-06 09:52 94次阅读

光罩(Mask)的系统性讲解

      本文介绍了什么是光罩(Mask)。 光罩(Mask),也称为掩膜版,是集成电路(IC)制....
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半导体所在PZT光电子材料与器件领域取得重大突破

数据中心、人工智能和云计算等威廉希尔官方网站 的飞速发展导致全球流量需求激增,对高速信息网络的构建提出了前所未有的....
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刻蚀工艺的参数有哪些

本文介绍了刻蚀工艺参数有哪些。 刻蚀是芯片制造中一个至关重要的步骤,用于在硅片上形成微小的电路结构。....
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第三代宽禁带半导体:碳化硅和氮化镓介绍

  第三代宽禁带功率半导体在高温、高频、高耐压等方面的优势,且它们在电力电子系统和电动汽车等领域中有....
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激光导热仪设备原理

本文介绍激光导热仪 微纳电子器件和光电器件向着模块化、集成化、高频化及小型化的方向不断迈进,使其单位....
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声光调制原理说明

本文介绍声光调制 声光是研究声音如何改变这种介质对光的影响,如图所示。许多有用的光子器件利用声音控制....
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填充片的定义及作用

本文介绍填充片的定义及作用 一、Dummy Wafer 的定义与作用 Dummy Wafer,中文称....
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从平面晶体管到FinFET的演变

在90纳米制程之前,每一代集成电路威廉希尔官方网站 节点的缩放不仅带来了更高的器件密度,还提升了器件性能。然而,当....
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模块封装的关键工艺

区别于分立器件模块的制造有一些特别的关键工艺威廉希尔官方网站 ,如银烧结、粗铜线键合、端子焊接等。
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多芯片封装的基本概念和关键威廉希尔官方网站

本文简单介绍了多芯片封装的概念、威廉希尔官方网站 、工艺以及未来发展趋势。
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干法刻蚀侧壁弯曲的原因及解决方法

本文介绍了干法刻蚀侧壁弯曲的原因及解决方法。 什么是侧壁弯曲? 如上图,是典型的干法刻蚀时,侧壁弯曲....
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晶圆表面温度对干法刻蚀的影响

本文介绍晶圆表面温度对干法刻蚀的影响 表面温度对干法刻蚀的影响主要包括:聚合物沉积,选择性,光刻胶流....
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键合丝焊接质量控制说明

本文重点围绕焊点机械性能指标的测试方法和判定标准,介绍了焊点测试、过程能力指数以及焊接不良的分析。 ....
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功率模块封装工艺有哪些

本文介绍了有哪些功率模块封装工艺。 功率模块封装工艺 典型的功率模块封装工艺在市场上主要分为三种形式....
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电光效应之普克尔效应和克尔效应

本文介绍了电光效应之普克尔效应和克尔效应。 电光是光子学的一个分支,研究光束的调制、切换、偏转、扫描....
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SiO2薄膜的刻蚀机理

本文介绍了SiO2薄膜的刻蚀机理。 干法刻蚀SiO2的化学方程式怎么写?刻蚀的过程是怎么样的?干法刻....
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干法刻蚀工艺的不同参数

      本文介绍了干法刻蚀工艺的不同参数。 干法刻蚀中可以调节的工艺参数有哪些?各有什么作用? ....
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晶圆制造生产周期时间的概念及意义

本文介绍生产周期时间的概念以及其意义。 生产周期时间的概念 生产周期时间是指从生产原料(如硅片)进入....
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常见的表面测量方法简介

可实现更小晶体管的下一代威廉希尔官方网站 是高数值孔径EUV光刻。 眼睛是心灵的窗户,人脑接收到的信息80%都是来....
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光刻机的分辨率受光源波长(λ)、工艺因子(k1)和数值孔径(NA)三个主要参数的影响。根据瑞利第一公....
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