英特尔(Intel)在今年的COMPUTEX终于正式宣布,其10纳米的处理器「Ice Lake」开始量产,但是另一个10纳米产品「Lakefiled」却缺席了。
虽然同样使用10纳米制程,但「Lakefiled」是一个更高阶的产品,同时也将是是英特尔首款使用3D封装威廉希尔官方网站 的异质整合处理器。
图四: 英特尔Foveros的堆叠解析图(source: intel)
根据英特尔发布的资料,「Lakefield」处理器,不仅在单一芯片中使用了一个10nm FinFET制程的「Sunny Cove」架构主核心,另外还配置了4个也以10nm FinFET制程生产的「Tremont」架构的小核心。此外,还内建LP-DDR4记忆体控制器、L2和L3快取记忆体,以及一个11代的GPU。
而能够将这么多的处理核心和运算单元打包成一个单芯片,且整体体积仅有12 x 12mm,所仰赖的就是「Foveros」3D封装威廉希尔官方网站 。
图五: 英特尔Foveros的区块与架构原理(source: intel)
在年初的架构日上,英特尔也特别针对「Foveros」威廉希尔官方网站 做说明。英特尔指出,不同于过去的3D芯片堆叠威廉希尔官方网站 ,Foveros能做到逻辑芯片对逻辑芯片的直接贴合。
英特尔表示,Foveros的问世,可以为装置与系统带来更高性能、高密度、低功耗的处理芯片威廉希尔官方网站 。Foveros可以超越目前被动中介层(interposers)的芯片堆叠威廉希尔官方网站 ,同时首次把记忆体堆叠到如CPU、绘图芯片和AI处理器等,这类高性能逻辑芯片之上。
此外,英特尔也强调,新威廉希尔官方网站 将提供卓越的设计弹性,尤其当开发者想在新的装置外型中,置入不同类型记忆体和I/O元素的混合IP区块。它能将产品分拆成更小的「微芯片(chiplets)」结构,让I/O、SRAM和电源传递电路可以在配建在底层的裸晶上,接着高性能的逻辑微芯片则可进一步堆叠在其上。
英特尔甚至强调,Foveros威廉希尔官方网站 的问世是该公司在3D封装上的一大进展,是继EMIB(Embedded Multi-die Interconnect Bridge)2D封装威廉希尔官方网站 之后的一大突破。
TSV与μbumps威廉希尔官方网站 是量产关键
而从英特尔所揭露的威廉希尔官方网站 资料可看出,Foveros本身就是一种3D IC威廉希尔官方网站 ,透过硅穿孔(Through-Silicon Via, TSV)威廉希尔官方网站 与微凸块(micro-bumps)搭配,把不同的逻辑芯片堆叠起来。
其架构概念就是在一块基础的运算微芯片(compute chiplet)上,以TSV加上微凸块的方式,堆叠其他的运算晶粒(die)和微芯片(chiplets),例如GPU和记忆体,甚至是RF元件等,最后再把整个结构打包封装。
而英特尔目前所使用的制程已达到10纳米,预计也可以顺利推进至7纳米,也此透过此3D封装威廉希尔官方网站 ,将可在单一芯片中达成绝佳的运算效能,并持续推进摩尔定律。
英特尔更特别把此威廉希尔官方网站 称为「脸贴脸(Face-to-Face)」的封装,强调它芯片对芯片封装的特点。而要达成此威廉希尔官方网站 ,TSV与微凸块(μbumps)的先进制程威廉希尔官方网站 就是关键,尤其是凸块接点的间距(pitch)仅有约36微米(micron),如何透过优异的打线流程来达成,就非常考验英特尔的生产威廉希尔官方网站 了。
图六: Foveros的TSV与微凸块叠合示意(source: intel)
但是英特尔也指出,Foveros威廉希尔官方网站 仍存在三个挑战,分别为散热、供电、以及良率。由于多芯片的堆叠,势必会大幅加大热源密度;而上下层逻辑芯片的供电性能也会受到挑战;而如何克服上述的问题,并在合理的成本内进行量产供货,则是最后的一道关卡。
依照英特尔先前发布的时程,「Lakefield」处理器应该会在今年稍晚推出,但由于英特尔没有在COMPUTEX更新此一产品的进度,是否能顺利推出仍有待观察。
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