0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看威廉希尔官方网站 视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

全球首台用紫外光源实现的22纳米分辨率的光刻机

电子工程师 来源:lq 2018-12-03 10:53 次阅读

“11月29日,中科院光电威廉希尔官方网站 研究所宣布国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收,成为全球首台用紫外光源实现的22纳米分辨率的***。”

这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。

该***由中国科学院光电威廉希尔官方网站 研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合多重曝光威廉希尔官方网站 后,可用于制造10纳米级别的芯片

超分辨率光刻镜头

项目副总设计师胡松介绍,中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备,打破了传统路线格局,形成一条全新的纳米光学光刻威廉希尔官方网站 路线,具有完全自主知识产权。

项目副总设计师胡松研究员介绍超分辨光刻装备研制项目攻关情况

本次“超分辨光刻装备研制”通过验收,是中国科学院光电威廉希尔官方网站 研究所多年的威廉希尔官方网站 积累结晶。

该***制造的相关器件已在如下科研院校的重大研究任务中取得应用。

中国航天科技集团公司第八研究院;

电子科技大学太赫兹科学威廉希尔官方网站 研究中心

四川大学华西医院;

中科院微系统所信息功能材料国家重点实验室。

中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备

“ASML的EUV***使用的13.5纳米的极紫外光源,价格高达3000万元,还要在真空下使用。”项目副总师胡松说,“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯,只要几万元一只。我们整机价格在百万元级到千万元级,加工能力介于深紫外级和极紫外级之间,让很多用户大喜过望。”

如此低成本的***,一旦量产,结合中国经济上的庞大需要,再结合中国庞大的理工人才,一个低成本的光刻工具,将造就一条极其庞大完备的芯片产业链。

不过,就此鼓吹中国打破ASML在高端***上的垄断未免为时过早。

ASML公司简介

ASML,中文名称为阿斯麦(中国大陆)、艾司摩尔(中国***)。是总部设在荷兰Veldhoven的全球最大的半导体设备制造商之一,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML一家独大,占有大约80%的市场份额。

台积电、三星英特尔等国际半导体巨头都是其客户,并且也都开始试验使用这种EUV设备生产芯片,以便能在更小芯片面积内,布局数量更多的晶体管,从而让计算设备速度更快。

毕竟目前该***制造的相关器件主要还是用于专用领域和特殊领域,距离商业化量产还需一段时日。

不过无论如何,这种关键威廉希尔官方网站 ,都是一种战略资源,可以不先进,也可以不成熟,但是“有它或者无它“,对国家安全的影响却是有天壤之别的。

其实在美国封杀中兴之际,ASML就声称将于2019年为中芯国际交付一台EUV***。那时我们就推断,西方国家判断我国的***威廉希尔官方网站 即将取得突破。

现在来看,果是如此。

西方总是会在我们掌握了威廉希尔官方网站 的“前一天”,很及时地送上并不过时的威廉希尔官方网站 。

但是我们并不能因此而自废武功,自主研发的脚步一刻不能停下。不能让“运十“悲剧重演。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光学
    +关注

    关注

    3

    文章

    751

    浏览量

    36252
  • 纳米
    +关注

    关注

    2

    文章

    696

    浏览量

    36982
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1150

    浏览量

    47389

原文标题:“超分辨光刻装备项目”通过国家验收,可加工22纳米芯片

文章出处:【微信号:China_Chip,微信公众号:国产芯片818】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    日本首台EUV光刻机就位

    据日经亚洲 12 月 19 日报道,Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司,已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。 它将分四个阶段进行安装,设备安装预计在
    的头像 发表于 12-20 13:48 104次阅读
    日本<b class='flag-5'>首台</b>EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>就位

    193nm紫外波前传感器(512x512高相位分辨率)助力半导体/光刻机行业发展!

    昊量光电联合法国Phasics公司推出全新一代193nm高分辨率(512x512)波前分析仪!该波前传感器采用Phasics公司专利威廉希尔官方网站 -四波横向剪切干涉威廉希尔官方网站 ,可以工作在190-400nm波段
    的头像 发表于 11-27 11:46 293次阅读
    193nm<b class='flag-5'>紫外</b>波前传感器(512x512高相位<b class='flag-5'>分辨率</b>)助力半导体/<b class='flag-5'>光刻机</b>行业发展!

    用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻威廉希尔官方网站 介绍

      本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻威廉希尔官方网站 。 芯片制造:光刻威廉希尔官方网站 的演进 过去半个多世纪,摩尔定律一直推动着半导体威廉希尔官方网站 的发展,但当光刻机
    的头像 发表于 11-24 11:04 486次阅读
    用来提高<b class='flag-5'>光刻机</b><b class='flag-5'>分辨率</b>的浸润式<b class='flag-5'>光刻</b>威廉希尔官方网站
介绍

    紫外光源的分类

    自然界中存在多种紫外光谱,人工紫外光源包括气体放电、超高温辐射体和半导体光源。常用紫外光源有高压汞灯、氙灯、氪灯、氘灯、紫外LED和准分子激
    的头像 发表于 10-25 14:10 249次阅读

    光刻工艺中分辨率增强威廉希尔官方网站 详解

    分辨率增强及威廉希尔官方网站 (Resolution Enhancement Technique, RET)实际上就是根据已有的掩膜版设计图形,通过模拟计算确定最佳光照条件,以实现最大共同工艺窗口(Common Process Window),这部分工作一般是在新
    的头像 发表于 10-18 15:11 525次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>工艺中<b class='flag-5'>分辨率</b>增强威廉希尔官方网站
详解

    俄罗斯首台光刻机问世

    据外媒报道,目前,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已组装并制造了第一台国产光刻机,作为泽廖诺格勒威廉希尔官方网站 生产线
    的头像 发表于 05-28 15:47 775次阅读

    俄罗斯推出首台光刻机:350nm

    来源:IT之家,谢谢 编辑:感知芯视界 Link 据外媒报道,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长Vasily Shpak表示,该设备可确保生产350纳米工艺
    的头像 发表于 05-28 09:13 673次阅读

    光刻机的基本原理和核心威廉希尔官方网站

    虽然DUVL机器可以通过多重曝光威廉希尔官方网站 将线宽缩小到7-5纳米,但如果要获得更小的线宽,DUVL已经达到了极限。采用EUV作为光源的极紫外光刻(EUVL)成为研究的重点,其波长为13.5纳米
    发表于 04-25 10:06 3425次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的基本原理和核心威廉希尔官方网站

    阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果

    )光刻机,并已经成功印刷出首批图案。这一重要成就,不仅标志着ASML公司威廉希尔官方网站 创新的新高度,也为全球半导体制造行业的发展带来了新的契机。目前,全球仅有两台高数值孔径EUV
    的头像 发表于 04-18 11:50 923次阅读
    阿斯麦(ASML)公司<b class='flag-5'>首台</b>高数值孔径EUV<b class='flag-5'>光刻机</b><b class='flag-5'>实现</b>突破性成果

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式
    发表于 03-21 11:31 6252次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
    的头像 发表于 03-14 08:42 550次阅读
    ASML <b class='flag-5'>首台</b>新款 EUV <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    浅谈不同阶段光刻机工作方式

    在曝光过程中,掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1,分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离,随着曝光次数的增加,会引起掩模版和
    发表于 03-08 10:42 1284次阅读
    浅谈不同阶段<b class='flag-5'>光刻机</b>工作方式

    台阶仪:亚埃级垂直分辨率,领跑新材料纳米加工的测量利器!

    台阶仪具备亚埃级垂直分辨率,可实现纳米级别测量和分析。在纳米加工领域,台阶仪能评估材料表面形貌和结构,优化纳米加工过程。其线性可变差动电容传
    的头像 发表于 02-19 13:49 649次阅读
    台阶仪:亚埃级垂直<b class='flag-5'>分辨率</b>,领跑新材料<b class='flag-5'>纳米</b>加工的测量利器!

    佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机

    Takeishi向英国《金融时报》表示,公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C,并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月,该公司表示该设备的价格将比ASML的EUV机器便宜一位数。 佳能表示,与利用光曝光电路图案的传统
    的头像 发表于 02-01 15:42 966次阅读
    佳能预计到2024年出货<b class='flag-5'>纳米</b>压印<b class='flag-5'>光刻机</b>

    镜头分辨率简述

    分辨率可以从显示分辨率与图像分辨率两个方向来分类。
    的头像 发表于 01-15 11:12 923次阅读