0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看威廉希尔官方网站 视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

为什么80%的芯片采用硅晶圆制造

中科院半导体所 来源:老虎说芯 2025-01-06 10:40 次阅读

本文详细介绍了硅作为半导体材料具有多方面的优势,包括良好的半导体特性、高质量的晶体结构、低廉的成本、成熟的加工工艺和优异的热稳定性。这些因素使得硅成为制造芯片的首选材料。

我们今天看到80%以上的芯片都是用硅片生产的,而不是用今天热门的碳化硅、砷化镓、氮化镓等材料生产。这是为什么?

材料的选择标准

在选择用于生产芯片的材料时,需要考虑以下几个主要因素:

电子特性:材料必须具备良好的半导体特性,能有效控制电子的运动。

晶体结构:材料需要具有高质量的单晶结构,以减少缺陷和提高芯片的性能。

成本:材料的成本需要相对低廉,以便大规模生产。

加工性:材料需要易于加工和制备,能够适应现有的制造工艺。

热稳定性:材料必须能够承受制造过程中高温环境下的性能变化。

硅作为首选材料的原因

2.1 半导体特性

硅是一种非常优秀的半导体材料,其带隙为1.12 eV,适中且适合多数电子器件的工作需求。硅的电子迁移率和空穴迁移率也较为理想,适合制造高性能的芯片。

2.2 晶体结构

硅能够通过直拉法(Czochralski法)和区熔法等工艺制备出高质量的大尺寸单晶。硅晶体结构完善,晶格缺陷少,有利于生产高性能的集成电路

2.3 成本

硅是地壳中含量第二丰富的元素(约占26.7%),其原材料(石英)非常丰富且廉价。相较于其他半导体材料如砷化镓(GaAs)和碳化硅(SiC),硅的提取和制备成本显著较低。

2.4 加工性

硅具有良好的机械强度和化学稳定性,能够承受复杂的制造工艺。现有的半导体制造工艺(光刻、扩散、离子注入等)都是基于硅材料开发的,因此硅晶圆的加工工艺成熟且成本低。

2.5 热稳定性

硅在高温下具有优异的稳定性,能够在高达1100°C的温度下保持其晶体结构和性能稳定。这使得硅能够适应现代芯片制造中高温工艺步骤的需求。

其他材料的挑战

尽管有其他材料如砷化镓(GaAs)、碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等,它们也具备优良的半导体特性,但它们在成本、加工性、热稳定性等方面存在一些挑战:

砷化镓(GaAs):电子迁移率高,但材料脆性大,制造成本高,且不易制备大尺寸单晶。

碳化硅(SiC):带隙宽,适合高温高压应用,但晶体生长困难,成本高。

氮化镓(GaN):具有优良的电子特性和热稳定性,但材料合成复杂,成本高。

其实,硅作为半导体材料具有多方面的优势,包括良好的半导体特性、高质量的晶体结构、低廉的成本、成熟的加工工艺和优异的热稳定性。这些因素使得硅成为制造芯片的首选材料,尽管在特定应用领域其他材料也有其独特的优势。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    456

    文章

    50919

    浏览量

    424572
  • 硅晶圆
    +关注

    关注

    4

    文章

    270

    浏览量

    20668

原文标题:为什么80%的芯片采用硅晶圆制造?

文章出处:【微信号:bdtdsj,微信公众号:中科院半导体所】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    【「大话芯片制造」阅读体验】+ 芯片制造过程和生产工艺

    盖楼一样,层层堆叠。 总结一下,芯片制造的主要过程包括加工、氧化、光刻、刻蚀、薄膜沉积、互连、测试和封装。
    发表于 12-30 18:15

    超薄的发展历程与未来展望!

    是半导体制造中的基础材料,主要用于生产各种电子元件,如晶体管、二极管和集成电路。它是通过将高纯度的熔化后冷却成单晶体结构,然后切割成
    的头像 发表于 12-26 11:05 279次阅读
    超薄<b class='flag-5'>硅</b><b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>的发展历程与未来展望!

    半导体制造工艺流程

    ,它通常采用的方法是化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)。该过程的目的是在单晶制造出一层高纯度的薄层,这就是半导体芯片的原料。第二步:
    的头像 发表于 12-24 14:30 558次阅读
    半导体<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>制造</b>工艺流程

    背面涂敷工艺对的影响

    工艺中常用的材料包括: 芯片粘结剂:作为浆料涂覆到背面,之后再烘干。采用这种方法,成本较低,同时可以控制键合层厚度并且提高单位时间产量。 WBC胶水:其成分
    的头像 发表于 12-19 09:54 269次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>背面涂敷工艺对<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>的影响

    【「大话芯片制造」阅读体验】+芯片制造过程工艺面面观

    第二章对芯片制造过程有详细介绍,通过这张能对芯片制造过程有个全面的了解 首先分为前道工序和后道工序 前道工序也称扩散工艺,占80
    发表于 12-16 23:35

    为什么的?芯片是方的?

    为什么是的而不是方的?按理说,方型的Die放在圆形的Wafer里总会不可避免有空间浪费,为什么不做成方型的更节省空间。因为制作工艺决定了它是圆形的。提纯过后的高纯度多晶是在一个
    的头像 发表于 12-16 17:28 208次阅读
    为什么<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>是<b class='flag-5'>圆</b>的?<b class='flag-5'>芯片</b>是方的?

    /晶粒/芯片之间的区别和联系

    本文主要介绍‍‍‍‍‍‍ (wafer)/晶粒 (die)/芯片 (chip)之间的区别和联系。   (Wafer)——原材料和生产
    的头像 发表于 11-26 11:37 694次阅读

    利用全息威廉希尔官方网站 在内部制造纳米结构的新方法

    本文介绍了一种利用全息威廉希尔官方网站 在内部制造纳米结构的新方法。 研究人员提出了一种在
    的头像 发表于 11-18 11:45 317次阅读

    的制备流程

    本文从硅片制备流程为切入点,以方便了解和选择合适的的制备工艺流程比较复杂,加工工序
    的头像 发表于 10-21 15:22 303次阅读

    制造良率限制因素简述(2)

    相对容易处理,并且良好的实践和自动设备已将断裂降至低水平。然而,砷化镓
    的头像 发表于 10-09 09:39 528次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>制造</b>良率限制因素简述(2)

    碳化硅的区别是什么

    。而是传统的半导体材料,具有成熟的制造工艺和广泛的应用领域。 制造工艺: 碳化硅
    的头像 发表于 08-08 10:13 1604次阅读

    是什么东西 芯片的区别

    是半导体制造过程中使用的一种圆形硅片,它是制造集成电路(IC)或芯片的基础材料。
    的头像 发表于 05-29 18:04 7302次阅读

    TC WAFER 测温系统 仪表化温度测量

    “TC WAFER 测温系统”似乎是一种用于测量(半导体制造中的基础材料)温度的系统。在半导体
    的头像 发表于 03-08 17:58 1081次阅读
    TC WAFER   <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>测温系统 仪表化<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>温度测量

    PFA夹在半导体芯片制造过程中的应用

    关注和应用。本报告旨在探讨PFA夹在芯片制造中的具体应用。 PFA夹是一种用于半导体多晶
    的头像 发表于 02-23 15:21 1009次阅读

    芯片制造全流程:从加工到封装测试的深度解析

    传统封装需要将每个芯片都从中切割出来并放入模具中。级封装 (WLP) 则是先进封装威廉希尔官方网站 的一种 , 是指直接封装仍在
    发表于 01-12 09:29 3427次阅读
    <b class='flag-5'>芯片</b><b class='flag-5'>制造</b>全流程:从<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>加工到封装测试的深度解析