功率放大器的器件威廉希尔官方网站 总是关于在相同或较高速度下,如何增加晶体管的射频功率密度和增益。功率密度和增益的提高可以减少增益级数和合成损耗,并且最终限制芯片在给定频率下,可以提供的原始功率、增益和效率。
功率密度的不断提升推动相关威廉希尔官方网站 从硅转移到标准砷化镓,再到高压砷化镓,最终到氮化镓。
随着威廉希尔官方网站 向高功率密度场效应管威廉希尔官方网站 的迁移,器件的温度管理问题也在增加。保证器件的“凉爽”是重要的,这是因为高温导致器件的原始性能和可靠性退化。在理论上,氮化镓在相对较高频率下,可提供的功率密度超过 20 W/mm。但是,在实际中,由于在非常紧凑的空间在内,大量热量的散发造成高温,氮化镓的使用被限制在5W/mm以下。
热设计挑战是碳化硅成为高性能射频应用首选衬底材料的最终原因。碳化硅的导热性就像氮化镓的高射频功率一样重要。也正是这个原因,Qorvo 等公司已经开始研究钻石等热属性更好的衬底材料。
为管理今天的热设计,电路设计人员让热量在半导体表面扩散,增加器件单元之间的距离或缩小器件单元。但是,热设计不仅仅是芯片层面。封装工程人员也必须帮忙,因为芯片封装接口的热通量也较高。为确保氮化镓器件器件能够提供最大限度射频功率密度,芯片与封装包之间的良好热接口极为重要。
在氮化镓威廉希尔官方网站
中,热设计与电气设计同等重要。
-
氮化镓
+关注
关注
59文章
1639浏览量
116431 -
电气设计
+关注
关注
2文章
86浏览量
16185 -
热设计
+关注
关注
11文章
128浏览量
26664
原文标题:利用 Qorvo 威廉希尔官方网站 管理热设计挑战丨不做Dummies!
文章出处:【微信号:Qorvo_Inc,微信公众号:Qorvo半导体】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
发布评论请先 登录
相关推荐
评论