气体质量流量控制器在半导体行业中应用广泛

气体是电子工业的“血液"，尤其在半导体制造过程中需要使用多种气体，如氮气、氢气、氩气等。在集成电路制造中气体的占比仅次于硅片，占晶圆制造成本的13%，主要应用于薄膜、刻蚀、掺杂、气相沉积、扩散等工艺。气体质量流量控制器在半导体行业中主要应用于气体供应和控制、清洗和干燥、气体混合和纯化以及气体泄漏检测和防护等方面，为半导体制造过程提供了精确的气体流量测量、控制和监测。

一、清洗干燥

在半导体制造工艺中，需要对晶圆和设备进行清洗和干燥，以去除杂质和水分。气体质量流量控制器可以用于控制清洗和干燥过程中的气体流量，确保清洁和干燥的效果。

二、气体混合和纯化

在一些特定的半导体工艺中，需要将多种气体按照一定比例混合使用。气体质量流量控制器可以根据设定的比例要求，实时监测和调节不同气体的流量，确保混合气体的比例精确控制，也可以检测气体中的杂质和污染物含量，进行气体纯化。

三、化学气相沉积工艺

在半导体化学气相沉积CVD工艺中，通常会使用一种或多种前体气体，这些气体在反应室中通过化学反应产生固态薄膜材料，然后沉积在半导体晶片表面。对于不同的前体气体，需要能够精确地控制其流量，以确保反应的准确性和稳定性。

四、监测和控制

在半导体制造过程中，任何气体泄漏都可能导致制造过程中的污染和故障。气体质量流量控制器可以用于实时监测气体流量的变化，当气体流量超过设定阈值或突然变化时，可以发出警报并采取相应措施进行泄漏检测和修复，保证半导体制造过程的稳定性和质量。

国产替代崛起

在半导体行业中，对于气体的流量及压力控制的精确度和稳定性等性能要求很高，以往大部分厂商使用进口品牌的设备以及气体质量流量控制器MFC，尤其是半导体行业。

近几年，由于受到限制因素影响，国产的设备商或生产商已经在逐步考虑国产品牌质量流量控制器的替代，尤其是对于大宗气体供应系统。

奥松电子的气体质量流量控制器MFC已经逐步参与到扩散/退火、离子注入、刻蚀、气相沉积等大部分工艺中。有部分产品已出口到国外的相关企业，其中AS200系列气体质量流量控制器深受好评，重复精度高达±0.2%F.S.；1×10 -10 Pa·m3 /sec He的低泄露率，气密性好，保障生产安全；可支持多种信号输出，包括数字信号、1～5V interwetten与威廉的赔率体系 信号以及4～20mA模拟信号；标准开放的通讯协议为客户自行开发控制、采集软件提供便利；同时，产品还提供功能强大的免费客户端上位机软件，方便用户调试操作。

审核编辑 黄宇