0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看威廉希尔官方网站 视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

万润股份在半导体制造材料领域稳步推进,涉足光刻胶单体、PI等业务

微云疏影 来源:综合整理 作者:综合整理 2023-12-12 14:02 次阅读

12月12日,万润股份在互动平台上透露,公司旗下光刻胶单体、PI浆料及半导体清洗剂添加剂等产品已实现大批量供应且仍处在不断扩张阶段。

近期,万润股份在接受机构调研时透露,其“年产65吨半导体用光刻胶树脂系列”项目已经顺利投入运营。该项目旨在为客户提供专业的半导体用光刻胶树脂类材料。此外,公司进一步强调了半导体材料业务的强大实力,拟定以全球化视野立足于全球半导体制造材料市场,为客户提供更加全面的产品和威廉希尔官方网站 服务。在当前阶段,公司的主要产品包括光刻胶单体、光刻胶树脂、光刻胶引发剂、半导体制程中的清洗剂添加剂等,并且正在全力拓展下游市场,全力支持国内外半导体产业的发展。

值得注意的是,万润股份全资子公司三月科技自主研发的OLED显示用光敏聚酰亚胺(PSPI)成品材料已成功实现下游面板厂商的销售,同时,TFT用聚酰亚胺成品材料亦得到了新的客户认可,一旦实现销售,将会显著提升三月科技全年业绩。接下来,三月科技还将着力推动显示用PI浆料在下游更多面板生产线上的应用及验证,力图在行业内取得领先地位。

现阶段,公司PI浆料销售表现良好,同时热塑性聚酰亚胺材料等在光纤连接器、航空航天复合材料等应用领域中试用品的供应也在稳步进行。位于山东蓬莱的新产能基地建设也在紧锣密鼓地启动中。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    334

    文章

    27305

    浏览量

    218199
  • OLED
    +关注

    关注

    119

    文章

    6198

    浏览量

    224131
  • 光刻胶
    +关注

    关注

    10

    文章

    317

    浏览量

    30221
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻胶成为半导体产业的关键材料

    光刻胶半导体制造领域的一种重要材料整个电子元器件加工产业有着举足轻重的地位。 它主要由感
    的头像 发表于 12-19 13:57 104次阅读

    三星减少NAND生产光刻胶使用量

    的使用量降低至目前的一半。这一威廉希尔官方网站 革新不仅将显著降低生产成本,还将有助于提升生产效率,为三星全球NAND闪存市场的竞争中增添更多优势。 光刻胶半导体制造过程中不可或缺的关键材料之一
    的头像 发表于 11-27 11:00 235次阅读

    一文解读光刻胶的原理、应用及市场前景展望

    光刻威廉希尔官方网站 是现代微电子和纳米威廉希尔官方网站 的研发中的关键一环,而光刻胶,又是光刻威廉希尔官方网站 中的关键组成部分。随着威廉希尔官方网站 的发展,对微小、精密的结构的需求日益增强,光刻胶的需求也水涨船高,
    的头像 发表于 11-11 10:08 423次阅读
    一文解读<b class='flag-5'>光刻胶</b>的原理、应用及市场前景展望

    一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶

    共读好书关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章:收藏!常用光刻胶型号资料大全,几乎包含所有芯片用光刻胶欢迎扫码添加小编微信扫码加入知识星球,领取公众号资料
    的头像 发表于 11-01 11:08 649次阅读

    富士胶片开始销售用于最先进半导体生产的材料

    日本富士胶片(Fujifilm Holdings)近期宣布开始销售针对最先进半导体生产的材料,正式进军高端半导体材料市场。这些材料包括
    的头像 发表于 10-31 17:12 287次阅读

    国产光刻胶通过半导体工艺量产验证

    设计,有望开创国内半导体光刻制造新局面。   众所周知,光刻胶半导体芯片制造过程中所必须的关键材料
    的头像 发表于 10-17 13:22 254次阅读
    国产<b class='flag-5'>光刻胶</b>通过<b class='flag-5'>半导体</b>工艺量产验证

    光刻胶的图形反转工艺

    形态。这种方法的主要应用领域是剥离过程,剥离过程中,底切的形态可以防止沉积的材料光刻胶边缘和侧壁上形成连续薄膜,有助于获得干净的剥离
    的头像 发表于 07-09 16:06 627次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的图形反转工艺

    光刻胶的保存和老化失效

    我们使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出
    的头像 发表于 07-08 14:57 933次阅读

    一文读懂半导体工艺制程的光刻胶

    光刻胶按照种类可以分为正性的、负性的。正受到紫外光照射的部分在显影时被去除,负受到紫外光曝光的地方显影后被留下。
    的头像 发表于 04-24 11:37 2887次阅读
    一文读懂<b class='flag-5'>半导体</b>工艺制程的<b class='flag-5'>光刻胶</b>

    康达新材投资2.89亿元建设半导体光刻胶关键材料光引发剂威廉希尔官方网站 项目 

    康达新材表示,为了贯彻其“新材料+电子科技”战略,优化旗下彩晶光电产品构成,填补内地资源空缺,推进国产化进程,解决半导体光刻胶核心材料受限问
    的头像 发表于 04-16 09:44 729次阅读

    SU-8光刻胶起源、曝光、特性

    紫外光照射下,三芳基碘盐光敏剂被激活,释放活性碘离子。这些活性碘离子与SU-8光刻胶中的丙烯酸酯单体反应,引发单体之间的交联反应,导致SU-8光刻
    的头像 发表于 03-31 16:25 4069次阅读
    SU-8<b class='flag-5'>光刻胶</b>起源、曝光、特性

    关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶显影过程中溶解,而曝光的
    的头像 发表于 03-20 11:36 2545次阅读
    关于<b class='flag-5'>光刻胶</b>的关键参数介绍

    光刻胶光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 4704次阅读

    2023年中国光刻胶行业市场前景及投资研究报告

    光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料,是半导体制造中使用的核心电子材料
    的头像 发表于 01-19 08:31 946次阅读
    2023年中国<b class='flag-5'>光刻胶</b>行业市场前景及投资研究报告

    光刻胶分类与市场结构

    光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。
    发表于 01-03 18:12 1314次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>分类与市场结构