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三星曝光威廉希尔官方网站 大进展!

中国半导体论坛 来源:中国半导体论坛 2023-12-05 15:09 次阅读

三星电子在 EUV 曝光威廉希尔官方网站 取得重大进展,韩媒 Business Korea 报导,三星电子 DS 部门研究员 Kang Young-seok 表示,三星使用的 EUV 光罩护膜(EUV pellicles)透光率(transmission rate)已达 90%,计划再提高至 94-96%。

EUV 光罩护膜(Pellicle)是光罩上的薄膜,保护光罩免于微尘或挥发性气体的污染,使 EUV 顺利传输。光罩护膜也是 EUV 曝光时的关键零件,目的是增加芯片生产良率,减少光罩使用时的清洁和检验。

三星今年初声称已开发出透光率达 88% 的 EUV 光罩护膜,且这款产品已经可以量产,而 Kang 表示三星 EUV 护膜透光率再度增加,达到 90%。其中,透光率 90% 的意思是只有 90% 进入薄膜的光线能到达光罩,这可能会影响电路图案的精度。这比更常见的氟化氩(ArF)制程中使用的薄膜透光率(99.3%)还低。

当 EUV 光罩护膜在 250 瓦光源下操作时,每平方公分会产生的 5 瓦热量,导致温度高达 680℃ 以上,因此除了降低光源衰退外,还必须解决光罩护膜在 EUV 过程中遇到的翘曲或断裂等散热问题。

据报导,三星已主要客户的部分先进 EUV 代工生产在线导入 EUV 光罩护膜。虽然三星也在 DRAM 生产线中采用 EUV 制程,但考虑到生产率和成本,该公司认为即使没有光罩护膜也可以进行内存量产。

EUV 光罩护膜目前有艾司摩尔(ASML)、三井化学(Mitsui Chemicals)、信越化学、S&S Tech、FST 等业者跨足,但据 Kang 透露,三星并没有使用韩国国内供货商提供的 EUV 光罩护膜,而是与日本三井化学合作,为唯一供货商。

虽然 FST 和 S&STech 等韩国公司正积极开发 EUV 光罩护膜,但还没实现量产。相比之下,台积电早在 2019 年开始使用自行开发的光罩护膜,并已在 7 奈米以下制程的生产线使用。

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原文标题:三星曝光威廉希尔官方网站 大进展!

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