0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看威廉希尔官方网站 视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

西陇科学9天8板,回应称“未生产、销售光刻胶”

微云疏影 来源:综合整理 作者:综合整理 2023-11-21 14:54 次阅读

11月20日,深圳证券交易所公布《关于对西陇科学股份有限公司的关注函》。

这封信由贵公司在移动公告中说,贵公司没有生产,销售光刻胶,贵公司生产,销售的光刻胶配套试剂是洗涤剂,显影液,剥离液等。目前,用于照相粘合剂的上述产品的销售收入在公司营业收入中所占的比重较低。请结合相关产品的产业链模式,市场竞争状况,相关收入在营业收入中所占比重等情况,说明相关概念对贵公司生产经营产生的具体影响,并充分提示风险。

同行业上市公司的估值、市盈率、股价变动幅度等,结合贵公司最近对股价的大变动,进行充分的风险提示,应该公开而未公开的重大信息,有没有积极适应市场的热点公司的操纵股价的情况等进行,请确认。

20日,西陇科学(株)发布公告称,该公司没有生产销售矿产品。公司生产及销售用于清洗剂、显影液、剥离液等的光刻胶,占公司营业收入的比例,是目前用于上述用途的光刻胶配套。

此前,西陇科学股价非正常上涨,11月8日至20日连续9个交易日收盘价价格偏差值累计达到116.02%,股价短期波动幅度较大。

据西陇科学官网称,西陇科学创建于1983年,2011年6月在深圳证券交易所上市。包括化学试剂、pcb化学试剂、湿式电子化学药品、原料药、食品添加剂、光伏电极材料、锂电极材料等精密化学药品及新材料的研发、生产、销售及支持服务。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 清洗剂
    +关注

    关注

    0

    文章

    9

    浏览量

    6409
  • 光刻胶
    +关注

    关注

    10

    文章

    317

    浏览量

    30225
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻胶清洗去除方法

    光刻胶作为掩模进行干法刻蚀或是湿法腐蚀后,一般都是需要及时的去除清洗,而一些高温或者其他操作往往会导致光刻胶碳化难以去除。
    的头像 发表于 11-11 17:06 422次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>清洗去除方法

    一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶

    共读好书关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章:收藏!常用光刻胶型号资料大全,几乎包含所有芯片用光刻胶欢迎扫码添加小编微信扫码加入知识星球,领取公众号资料
    的头像 发表于 11-01 11:08 684次阅读

    光刻胶的使用过程与原理

    本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。
    的头像 发表于 10-31 15:59 354次阅读

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶

    在微流控PDMS芯片加工的过程中,需要使用烘台或者烤设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8
    的头像 发表于 08-27 15:54 262次阅读

    如何成功的旋涂微流控SU-8光刻胶

    在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中,需要把PDMS或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS或SU-
    的头像 发表于 08-26 14:16 318次阅读

    导致光刻胶变色的原因有哪些?

    存储时间 正和图形反转在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力,对紫外灵敏度没有任何影响。这种变色过程
    的头像 发表于 07-11 16:07 559次阅读

    光刻胶的硬烘烤威廉希尔官方网站

    根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
    的头像 发表于 07-10 13:46 843次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的硬烘烤威廉希尔官方网站

    光刻胶的一般特性介绍

    评价一款光刻胶是否适合某种应用需要综合看这款光刻胶的特定性能,这里给出光刻胶一般特性的介绍。 1. 灵敏度 灵敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所
    的头像 发表于 07-10 13:43 632次阅读

    光刻胶后烘威廉希尔官方网站

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影,也就是说还未闭合,PEB也可以在高于光刻胶软化温度的情况下进行。前面的文章中我们在
    的头像 发表于 07-09 16:08 1375次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>后烘威廉希尔官方网站

    光刻胶的图形反转工艺

    图形反转是比较常见的一种紫外光刻胶,它既可以当正使用又可以作为负使用。相比而言,负工艺更被人们所熟知。本文重点介绍其负
    的头像 发表于 07-09 16:06 632次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的图形反转工艺

    光刻胶的保存和老化失效

    我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并且,在
    的头像 发表于 07-08 14:57 957次阅读

    SU-8光刻胶起源、曝光、特性

    在紫外光照射下,三芳基碘盐光敏剂被激活,释放活性碘离子。这些活性碘离子与SU-8光刻胶中的丙烯酸酯单体反应,引发单体之间的交联反应,导致SU-8光刻胶在曝光区域形成凝胶化的图案。
    的头像 发表于 03-31 16:25 4093次阅读
    SU-<b class='flag-5'>8</b><b class='flag-5'>光刻胶</b>起源、曝光、特性

    关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的
    的头像 发表于 03-20 11:36 2560次阅读
    关于<b class='flag-5'>光刻胶</b>的关键参数介绍

    光刻胶光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 4710次阅读

    光刻胶分类与市场结构

    光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比2
    发表于 01-03 18:12 1320次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>分类与市场结构