颠覆性威廉希尔官方网站 !半导体行业再放大招!
近日,日本佳能官方发布
纳米压印(NIL)半导体制造设备
未来,或将替代ASML***
成为更低成本的芯片制造设备!
要知道,半导体是目前全球经济的核心,在中国更是如此。中国的芯片进口量已经超过了石油进口量,各种半导体芯片在日常设备中无处不在。
在芯片的制造过程中,***是必不可少的设备。目前,最先进的EUV***波长只有13.5nm,是制造7nm及以下高端芯片的重要设备。但EUV***非常昂贵和复杂,每台价格超过1亿美元,而且全球只有荷兰的ASML公司能够生产。这就导致了芯片的生产成本飙升,且供应量有限。
事实上,光刻威廉希尔官方网站 本身存在多种路线,离产业最近的,当属纳米压印光刻。近日,日本佳能(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)威廉希尔官方网站 实现了目前最先进的半导体工艺。此消息一出,即被业内认为,这将是挑战ASML的一大王牌。
(佳能官网信息)
据悉,纳米压印(NIL)威廉希尔官方网站 可以形成最小线宽为 14nm 的图案(相当于现在 5nm 节点工艺),而且通过进一步改进掩模,还将有可能支持 10nm 的最小线宽(相当于 2nm 节点工艺)。众所周知,ASML 的***(EUV)是通过特定光线照射在涂有光刻胶的晶圆上,从而将电路打印到芯片上,纳米压印(NIL)设备则更类似于 “印刷” 而不是 “投影”。
纳米压印(NIL)设备是通过将掩模直接压到晶圆的抗蚀剂层上,将电路图完整地转移过去,然后用自主喷墨威廉希尔官方网站 将适量的抗蚀剂添加到合适的位置,最后将掩模印在涂有抗蚀剂的晶圆上进⾏精准曝光。单⼀压印即可形成复杂的 2D 或 3D 电路图。
官方称该设备结构简单,由于不需要***(EUV)的大规模特殊波长光学系统和真空腔,所以基于纳米压印(NIL)威廉希尔官方网站 的设备得以大幅缩小体积。此外,该设备可用更小的功率形成精细图案,相比传统的 ***(EUV)投影曝光设备在形成图案时对应的功耗可降低至 1/10,同时也显著减少了碳排放。
纳米压印(NIL)设备的环境控制新威廉希尔官方网站 可抑制内部细颗粒的产生和污染,实现多层半导体制造所需的高精度对准,并减少由颗粒引起的缺陷,从而可以形成微小且复杂的电路,为尖端半导体器件的制造做出贡献。最后,官方称该设备也可用于半导体器件以外的制造场景,包括集成电路、存储、光学、生命科学、能源、环保、国防等领域。
这一项成功的案例和全新思路的铺展,对中国***的研发带来重大启发。在低成本、高分辨率、简单工序等优点的芯片制造需求上,中国吸取更多经验并积极探索和创新成果,与全球共同挑战光刻威廉希尔官方网站 的地位,为半导体行业贡献更多选择的可能性。
审核编辑 黄宇
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