0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看威廉希尔官方网站 视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

光刻胶龙头拟北交所上市!

半导体材料圈 来源:集微网 2023-10-09 17:18 次阅读

10月7日,证监会披露了国信证券股份有限公司(简称:国信证券)关于瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司(简称:瑞红苏州)向不特定合格投资者公开发行股票并在北交所上市辅导备案报告。

202d0e94-6682-11ee-939d-92fbcf53809c.png

据披露,国信证券与瑞红苏州于2023年9月签订了辅导协议,国信证券担任瑞红苏州向不特定合格投资者公开发行股票并在北交所上市辅导工作的辅导机构。

瑞红苏州已规模生产光刻胶30年,是国内光刻胶行业的领军企业之一,聚焦于半导体及显示面板应用领域,产品主要应用于FPD(LCD、TP、OLED、CF) LEDIC等相关电子行业,客户包括中芯国际、合肥长鑫、华虹半导体、晶合集成、三安光电、扬杰电子等国内知名半导体企业。其中半导体光刻胶包括紫外宽谱光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶等,显示面板光刻胶包括触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等。

瑞红苏州厂区面积15000㎡,厂房6000㎡,洁净房400㎡,拥有100级净化罐装线。公司建成了具有国际先进水平的高端光刻胶生产线和测试实验平台,同时拥有紫外宽谱、g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)全系列***测试实验平台,可为公司产品研发测试、客户验证等提供全面的核心设备保障。

2023年上半年,瑞红苏州实现营业收入1.17亿元,同比下降1.64%;归母净利润1574.32万元,同比下降41.90%。

从股权结构来看,瑞红苏州的控股股东为上市公司晶瑞电材,其持股比例为88.78%。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    334

    文章

    27307

    浏览量

    218208
  • 显示面板
    +关注

    关注

    4

    文章

    214

    浏览量

    25138
  • 光刻胶
    +关注

    关注

    10

    文章

    317

    浏览量

    30221

原文标题:光刻胶龙头拟北交所上市!

文章出处:【微信号:icjobs,微信公众号:半导体材料圈】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻胶清洗去除方法

    光刻胶作为掩模进行干法刻蚀或是湿法腐蚀后,一般都是需要及时的去除清洗,而一些高温或者其他操作往往会导致光刻胶碳化难以去除。
    的头像 发表于 11-11 17:06 409次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>清洗去除方法

    一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶

    共读好书关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章:收藏!常用光刻胶型号资料大全,几乎包含所有芯片用光刻胶欢迎扫码添加小编微信扫码加入知识星球,领取公众号资料
    的头像 发表于 11-01 11:08 656次阅读

    光刻胶的使用过程与原理

    本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。
    的头像 发表于 10-31 15:59 343次阅读

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶

    在微流控PDMS芯片加工的过程中,需要使用烘台或者烤设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8
    的头像 发表于 08-27 15:54 258次阅读

    导致光刻胶变色的原因有哪些?

    存储时间 正和图形反转在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力,对紫外灵敏度没有任何影响。这种变色过程
    的头像 发表于 07-11 16:07 550次阅读

    光刻胶的硬烘烤威廉希尔官方网站

    根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
    的头像 发表于 07-10 13:46 835次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的硬烘烤威廉希尔官方网站

    光刻胶的一般特性介绍

    评价一款光刻胶是否适合某种应用需要综合看这款光刻胶的特定性能,这里给出光刻胶一般特性的介绍。 1. 灵敏度 灵敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所
    的头像 发表于 07-10 13:43 625次阅读

    光刻胶后烘威廉希尔官方网站

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影,也就是说还未闭合,PEB也可以在高于光刻胶软化温度的情况下进行。前面的文章中我们在
    的头像 发表于 07-09 16:08 1370次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>后烘威廉希尔官方网站

    光刻胶的图形反转工艺

    图形反转是比较常见的一种紫外光刻胶,它既可以当正使用又可以作为负使用。相比而言,负工艺更被人们
    的头像 发表于 07-09 16:06 627次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的图形反转工艺

    光刻胶的保存和老化失效

    我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并且,在
    的头像 发表于 07-08 14:57 933次阅读

    关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶
    的头像 发表于 03-20 11:36 2551次阅读
    关于<b class='flag-5'>光刻胶</b>的关键参数介绍

    锋元机器人上市

    厦门锋元机器人有限公司近日隆重举行了IPO上市启动签约仪式,标志着公司正式开启冲刺上市的征程。这一重要举措不仅展现了锋元机器人强劲的发
    的头像 发表于 03-07 14:05 1084次阅读

    光刻胶光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 4704次阅读

    如何在芯片中减少光刻胶的使用量

    光刻胶不能太厚或太薄,需要按制程需求来定。比如对于需要长时间蚀刻以形成深孔的应用场景,较厚的光刻胶层能提供更长的耐蚀刻时间。
    的头像 发表于 03-04 10:49 642次阅读
    如何在芯片中减少<b class='flag-5'>光刻胶</b>的使用量

    光刻胶分类与市场结构

    光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%,是第三达应用场景。
    发表于 01-03 18:12 1315次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>分类与市场结构