Atonarp 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制
先进半导体应用的原位过程控制
上海伯东日本 Atonarp Aston™ Impact 和 Aston™ Plasma 是超紧凑型质谱仪, 适用于先进半导体工艺（如沉积和蚀刻）所需的定量气体分析.
 分子测量 快速，灵敏度达到十亿分之一 检测残留气体 / 冷凝物污染. |
 提高产量 提供化学特定的可操作见解, 尽可能地提高产量 |
 提高安全性 监测爆炸性气体. 检查排放和减排效果. |
Aston™ 质谱仪解决了关键的原位计量问题
• 提高吞吐量:端点检测而不是基于时间的流程
• 提高产量: 以十亿分之一的灵敏度测量沉积和蚀刻工艺期间的工艺气体 / 副产物
Aston™ 质谱仪先进工艺的优势
ppb 级灵敏度的高速采样
非常适合高纵横比的 3D 结构
耐腐蚀性气体
坚固紧凑
易于集成到工具平台中
沉积应用中: 实时过程气体监控，以驱动自动化工具调整以实现过程控制, 沉积步骤之间的终点检测, 实现层的化学计量工程
蚀刻应用中: 以 ppb 为单位测量的工艺气体和副产品, 启用端点腔室清洁
Atonarp Aston™ 威廉希尔官方网站
参数
| 类型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
| 型号 | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
| 质量分离 | 四级杆 | |||||
| 真空系统 | 分子泵 |
分子泵 隔膜泵 |
分子泵 |
分子泵 隔膜泵 |
分子泵 |
分子泵 隔膜泵 |
| 检测器 | FC /SEM | |||||
| 质量范围 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
| 分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
| 检测限 | 0.1 PPM | |||||
| 工作温度 | 15-35“℃ | |||||
| 功率 | 350 W | |||||
| 重量 | 15 kg | |||||
| 尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) |
Aston™ 质谱仪半导体制造应用
|
先进的工艺 原子层沉积 (ALD) 化学气相沉积 (CVD) 原子层蚀刻 (ALE) 腔室管理 干净的终点检测 指纹识别和匹配 Sub-fab安全性, 可持续性和节省优化 过程安全监控 干泵保护 减排管理 |
|
沉积 化学气相沉积 钨 TEOS 蚀刻 介电,导电,金属 高纵横比 <1% 开放区域检测 EUV/光刻 SnH4 蚀刻 光掩模蚀刻 自主过程控制 模型驱动的实时过程监控 |
审核编辑黄宇
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发表于 01-02 17:08
工商网监
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