半导体蚀刻工艺课堂素材分享（4）（下）
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
半导体
+关注
关注
334文章
27362浏览量
218648 -
蚀刻工艺
+关注
关注
3文章
51浏览量
11739
发布评论请先 登录
相关推荐
半导体器件制造中的蚀刻工艺威廉希尔官方网站 概述
在半导体器件制造中，蚀刻指的是从衬底上的薄膜选择性去除材料并通过这种去除在衬底上产生该材料的图案的任何威廉希尔官方网站
，该图案由抗蚀刻工艺的掩模限定，其产生在光刻中有详细描述，一旦掩模就位，可以通过湿法化学或“干法”物理方法对不受掩模保护的
发表于 07-06 17:23
•3770次阅读
详谈PCB的蚀刻工艺
先在板子外层需保留的铜箔部分上，也就是电路的图形部分上预镀一层铅锡抗蚀层，然后用化学方式将其余的铜箔腐蚀掉,称为蚀刻。 一.蚀刻的种类 要注意的是，蚀刻时的板子上面有两层铜。在外层蚀刻工艺
发表于 09-19 15:39
PCB外层电路的蚀刻工艺
导线线宽十分精细时将会产生一系列的问题。同时,侧腐蚀（见图4）会严重影响线条的均匀性。 在印制板外层电路的加工工艺中，还有另外一种方法，就是用感光膜代替金属镀层做抗蚀层。这种方法非常近似于内层蚀刻工艺
发表于 11-26 16:58
湿法蚀刻工艺
湿法蚀刻工艺的原理是使用化学溶液将固体材料转化为液体化合物。选择性非常高，因为所用化学药品可以非常精确地适应各个薄膜。对于大多数解决方案，选择性大于100：1。
发表于 01-08 10:12
《炬丰科技-半导体工艺》硅纳米柱与金属辅助化学蚀刻的比较
：MacEtch 是一种湿法蚀刻工艺，可提供对取向、长度、形态等结构参数的可控性，此外，它是一种制造极高纵横比半导体纳米结构的简单且低成本的方法。 3 该工艺利用了在氧化剂（例如过氧化氢 (H2O2)）和酸（例如
发表于 07-06 09:33
《炬丰科技-半导体工艺》GaN的晶体湿化学蚀刻
`书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：GaN的晶体湿化学蚀刻[/td][td]编号：JFSJ-21-0作者：炬丰科技网址：http://www.wetsemi.com/index.html 目前
发表于 07-07 10:24
《炬丰科技-半导体工艺》GaN 纳米线制造和单光子发射器器件应用的蚀刻工艺
`书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：GaN 纳米线制造和单光子发射器器件应用的蚀刻工艺编号：JFSJ-21-045作者：炬丰科技网址：http://www.wetsemi.com
发表于 07-08 13:11
PCB蚀刻工艺原理_pcb蚀刻工艺流程详解
本文首先介绍了PCB蚀刻工艺原理和蚀刻工艺品质要求及控制要点，其次介绍了PCB蚀刻工艺制程管控参数及蚀刻工艺品质确认，最后阐述了PCB蚀刻工艺
发表于 05-07 09:09
•4.5w次阅读
蚀刻工艺课堂素材分享（4）（上）
/poYBAGLo3tqABvc4AAEmC3pr7kw890.png //figurefigure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/59/8A
半导体蚀刻工艺课堂素材分享（3）（三）
figure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5A/91/pYYBAGLqPkmAXCKzAAPUBC0ab8Y049.png //figurefigure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/59/F5/poYBAGLqPkiAT0LYAACVObdCn8Q760.png //figurefigure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5A/91/pYYBAGLqPkiAEa-9AAEAFrq-q3Q441.png //figure
蚀刻工艺课堂素材5（上）
figure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5A/F0/poYBAGLs2S-AcM5lAAML_7p0dz4646.png //figurefigure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5B/8C/pYYBAGLs2S-AEU0GAAJj8aphWQw627.png //figurefigure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5B/8C/pYYBAGLs2S-AQrdZAANQu5XkEg4543.png //figure
发表于 08-05 16:48
•819次阅读
芯片湿法蚀刻工艺
芯片湿法蚀刻工艺是一种在半导体制造中使用的关键威廉希尔官方网站
，主要用于通过化学溶液去除硅片上不需要的材料。 基本概念 湿法蚀刻是一种将硅片浸入特定的化学溶液中以去除不需要材料的工艺，广泛应用于
工商网监
评论