目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻威廉希尔官方网站 ,EUV使用的是深紫外光刻威廉希尔官方网站 。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv光刻机和euv光刻机区别是是什么呢?
duv光刻机和euv光刻机区别
1.基本上duv只能做到25nm,而euv能够做到10nm以下晶圆的生产。
2. duv主要使用的是光的折射原理,而euv使用的光的反射原理,内部必须是真空操作。
以上就是duv光刻机和euv光刻机区别了,现在基本都是euv光刻机。
文章综合php中文网、科创板日报、百度百科
编辑:何安
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