中国euv光刻机三大突破 光刻机的三个系统
如今世界最先进的EUV光刻机，只有asml一家公司可以制造出来。
光刻机总共有三个核心部件，一是双工件台，二是EUV光源，三是EUV光学镜头，顾名思义，高能同步光源设备，是应用于EUV光源的设备。
据最新消息了解，清华大学已经和北京华卓精科合作，并且实现了65nm工艺光刻机需求的双工件台系统。
据央视报道，中科院高能物理研究院，创造出了中国首台高能同步辐射光源设备，此外，为这台光源设备提供威廉希尔官方网站 支持的测试平台，也已经开始试运行。
光刻机主要包括：光源、投影物镜和工件台三个子系统及其他部件。其中，光源系统主要用来发射激光，投影物镜系统主要用来对光线进行精准聚焦，工件台主要用来承载硅片并根据光刻需求进行精密运动，其决定了光刻机的分辨率和生产效率。
文章综合丰牛财经、小夏分享快乐I、操盘必读
编辑：黄飞
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