三星电子GAA制程工艺节点芯片开始初步生产

2022年6月30日，作为先进的半导体威廉希尔官方网站 厂商之一的三星电子今日宣布， 基于3nm全环绕栅极（Gate-All-AroundT，简称 GAA）制程工艺节点的芯片已经开始初步生产。

三星电子首次实现GAA“多桥-通道场效应晶体管”（简称： MBCFET™ Multi-Bridge-Channel FET）应用打破了FinFET威廉希尔官方网站 的性能限制，通过降低工作电压水平来提高能耗比，同时还通过增加驱动电流增强芯片性能。

三星首先将纳米片晶体管应用于高性能、低功耗计算领域的半导体芯片，并计划将其扩大至移动处理器领域。

三星电子Foundry业务部总经理崔时荣表示：

一直以来，三星电子不断将新一代工艺威廉希尔官方网站 应用于生产制造中。例如：三星的第一个High-K Metal Gate （HKMG） 工艺、FinFET 以及 EUV等。三星希望通过率先采用3nm工艺的‘多桥-通道场效应晶体管’（ MBCFET™），将继续保持半导体行业前沿地位。同时，三星将继续在竞争性威廉希尔官方网站 开发方面积极创新，并建立有助于加速实现威廉希尔官方网站 成熟的流程。

威廉希尔官方网站 设计优化，使PPA¹收益更大化

3nm GAA威廉希尔官方网站 采用了更宽通的纳米片，与采用窄通道纳米线的GAA威廉希尔官方网站 相比能提供更高的性能和能耗比。3nm GAA威廉希尔官方网站 上，三星能够调整纳米晶体管的通道宽度，优化功耗和性能，从而能够满足客户的多元需求。

此外，GAA的设计灵活性对英国威廉希尔公司网站 协同优化（DTCO）²非常有利，有助于实现更好的PPA优势。与三星5nm工艺相比，第一代3nm工艺可以使功耗降低45%，性能提升23%，芯片面积减少16%；而未来第二代3nm工艺则使功耗降低50%，性能提升30%，芯片面积减少 35%。

与SAFE™合作伙伴一起，提供3nm设计基础设施和服务

随着工艺节点变得越来越小，而芯片性能需求越来越高，IC设计师们需要面对处理海量数据，以及验证功能更多、扩展更紧密的复杂产品的挑战。为了满足这些需求，三星致力于提供更稳定的设计环境，以帮助减少设计、验证和批准过程所需的时间，同时也提高了产品的可靠性。

自2021年第三季度以来，三星电子一直通过与包括ANSYS、楷登电子、西门子和新思科技在内的三星先进晶圆代工生态系统SAFE™（Samsung Advanced Foundry Ecosystem）合作伙伴的紧密协作，提供成熟的设计基础设施，使其能够在更短的时间内完善其产品。