Vishay Siliconix SiSS52DN器件采用 PowerPAK1212‑8S 封装,导通电阻低至 0.95 mΩ,优异的 FOM 仅为 29.8mΩ*nC
Vishay 推出多功能新型 30 V n 沟道 TrenchFET第五代功率 MOSFET,提升隔离和非隔离拓扑结构功率密度和能效。
Vishay SiliconixSiSS52DN采用热增强型 3.3 mm x 3.3 mm PowerPAK1212-8S 封装,10 V 条件下导通电阻仅为 0.95 mΩ,比上一代产品低 5 %。此外, 4.5 V 条件下器件导通电阻为 1.5 mΩ,而 4.5 V 条件下导通电阻与栅极电荷乘积,即 MOSFET 开关应用重要优值系数(FOM)为 29.8 mΩ*nC,是市场上优值系数最低的产品之一。
SiSS52DN的 FOM 比上一代器件低 29%,从而降低导通和开关损耗,节省功率转换应用的能源。SiSS52DN适用于同步整流、同步降压转换器、DC/DC 转换器、开关柜拓扑结构、OR-ring FET 低边开关,以及服务器、通信和 RF 设备电源的负载切换。MOSFET 可提高隔离和非隔离拓扑结构的性能,简化设计人员两种电路的器件选择。 器件经过 100 % RG和 UIS 测试,符合 RoHS 标准,无卤素。
原文标题:新型 30V N沟道 MOSFET 提升隔离和非隔离拓扑结构功率密度和能效
文章出处:【微信公众号:Vishay威世科技】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
责任编辑:haq
-
MOSFET
+关注
关注
147文章
7160浏览量
213225 -
Vishay
+关注
关注
20文章
882浏览量
116248
原文标题:新型 30V N沟道 MOSFET 提升隔离和非隔离拓扑结构功率密度和能效
文章出处:【微信号:Vishay威世科技,微信公众号:Vishay威世科技】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
发布评论请先 登录
相关推荐
Snap发布第五代Spectacles AR眼镜
第五代AMD EPYC处理器预计下半年发布
Microchip推出高性能第五代PCIe®固态硬盘控制器系列
三星第五代DDR产品良率不达标
【机器视觉】欢创播报 | 比亚迪第五代DM混动威廉希尔官方网站 正式发布
今日看点丨续航超2500公里!比亚迪第五代DM威廉希尔官方网站 正式发布;华为“享界”商标转让北汽,联合设计享界 S9

中国混动汽车油耗再次突破新低 比亚迪第五代DM威廉希尔官方网站 发布油耗低至2.9L
capsense第四代和第五代在感应模式上的具体区别是什么?
第五代英特尔至强处理器,AI特化的通用服务器CPU

评论