盛美半导体设备的 TEBO 兆声波清洗威廉希尔官方网站 专利在美国获得授权
盛美半导体设备(NASDAQ:ACMR),作为半导体制造与先进晶圆级封装领域中领先的设备供应商,近日宣布美国专利及商标局批准了美国专利申请号为 15/575,793 的专利申请,该专利为盛美独有的 TEBO(时序能激气穴震荡)兆声波清洗威廉希尔官方网站 。
盛美的 TEBO 清洗威廉希尔官方网站 适用于 28nm 或以下的图形硅片清洗,通过一系列频率高达每秒 100 万次的压力变化,使得气泡在受控的温度下,以稳定的尺寸和形状进行振荡。这些气泡被控制在稳定的振荡状态下,不会发生内爆,因此不会破坏晶圆表面的微结构, 晶圆表面的图形结构也可以被清洗干净,同时避免遭到破坏。在产品结构从 2D 向 3D 的威廉希尔官方网站 转型过程中,基于 TEBO 的清洗设备可以应用于 FinFET、DRAM、新兴的 3D。
NAND 等更复杂的 3D 结构产品,来提高客户产品的良率。2020 年 9 月盛美已向一家领先的中国集成电路厂商交付了第二代 TEBO 设备,用于在生产环境中进行评估。
盛美已在中国、美国、日本、韩国、新加坡、中国台湾等地获得超过 285 项专利。
原文标题:盛美半导体设备的 TEBO 兆声波清洗威廉希尔官方网站 专利在美国获得授权
文章出处:【微信公众号:集成电路应用杂志】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
责任编辑:haq
-
半导体
+关注
关注
334文章
27344浏览量
218456 -
晶圆
+关注
关注
52文章
4908浏览量
127963 -
封装
+关注
关注
126文章
7892浏览量
142937
原文标题:盛美半导体设备的 TEBO 兆声波清洗威廉希尔官方网站 专利在美国获得授权
文章出处:【微信号:appic-cn,微信公众号:集成电路应用杂志】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
发布评论请先 登录
相关推荐
评论