0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看威廉希尔官方网站 视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

极紫外(EUV)光刻威廉希尔官方网站 将如何影响掩模收入?

倩倩 来源:文财网 作者:文财网 2020-11-23 14:42 次阅读

藤村:在过去的几年中,口罩的收入一直在增长。在此之前,口罩收入相当稳定,每年约为30亿美元。最近,它们已经超过了40亿美元的水平,并且预计还会继续增长。发光二极管公司认为,这一增长的一部分是由于该行业向EUV的转变。调查中的一个问题问到参与者:“ COVID将对光掩模市场产生什么业务影响?” 有人认为这可能是消极的,但大多数人认为这不会产生太大影响,或者可能会产生积极的影响。在最近的eBeam计划中小组成员评论说,前景乐观的原因可能是由于半导体行业的需求情况。庇护所和在家工作的环境正在为电子和半导体行业创造更多的需求和机会。

SE:极紫外(EUV)光刻威廉希尔官方网站 将如何影响掩模收入?

藤村:总体上,三分之二的调查参与者认为这将产生积极的影响。前往EUV时,口罩的数量减少了。这是因为EUV将整个行业带回单一模式。具有多个图案的193nm浸入需要在高级节点处使用更多的掩模。使用EUV,您的掩模较少,但是每个EUV层的掩模成本更高。

SE:几十年来,IC行业一直遵循摩尔定律,即芯片中的晶体管密度每18到24个月翻一番。按照这种节奏,芯片制造商可以在芯片上封装更多和较小的晶体管,但是摩尔定律似乎正在放缓。接下来是什么?

藤村:摩尔定律的定义正在改变。不再关注CPU时钟速度的趋势。那变化不大。它通过位宽扩展而不是时钟速度扩展。其中很多与热性能和其他方面有关。我们有一些理论可以逐步改善。另一方面,如果您查看诸如使用GPU或具有更多CPU内核的大规模并行计算之类的东西,以及如果包括这些东西,则可以多快地访问内存(或可以访问多少内存),那么摩尔定律就非常活跃。

例如,D2S为半导体制造业提供计算系统,因此我们也是威廉希尔官方网站 的消费者。我们进行大量的超级计算,因此了解计算能力方面的情况对我们很重要。我们看到的是,我们的计算能力正在以与以前大致相同的速度持续提高。但是,作为程序员,我们必须适应如何利用它。并不是您可以使用相同的代码,它就不会像20年前那样自动缩放。您必须了解在任何给定时间点,缩放比例如何不同。您必须弄清楚如何利用新一代威廉希尔官方网站 的优势,然后转移代码。因此,这肯定更难。您必须弄清楚如何利用新一代威廉希尔官方网站 的优势,然后转移代码。因此,这肯定更难。您必须弄清楚如何利用新一代威廉希尔官方网站 的优势,然后转移代码。因此,这肯定更难。

责任编辑:lq

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    455

    文章

    50817

    浏览量

    423693
  • 光刻威廉希尔官方网站

    关注

    1

    文章

    146

    浏览量

    15827
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    607

    浏览量

    86030
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    日本首台EUV光刻机就位

    据日经亚洲 12 月 19 日报道,Rapidus 成为日本首家获得紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司,已经开始在北海道芯片制造厂内安装
    的头像 发表于 12-20 13:48 183次阅读
    日本首台<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>机就位

    Prolith和HyperLith‌主要用于mask-in-stepper lithography仿真、光刻设计

    ‌易用性‌:HyperLith的图形用户界面(GUI)设计得非常简洁,特别适合mask-in-stepper lithography仿真。用户可以选择预定义的掩模威廉希尔官方网站 、图案和抗蚀剂模型,或者自定义
    发表于 11-29 22:18

    最新CMOS威廉希尔官方网站 发展趋势

    威廉希尔官方网站 EUV) 随着制程威廉希尔官方网站 的发展,传统的光刻威廉希尔官方网站 已经接近物理极限。
    的头像 发表于 11-14 10:01 482次阅读

    美投资8.25亿美元建设NSTC关键设施,重点发展EUV光刻威廉希尔官方网站

    拜登政府已宣布一项重大投资决策,计划在纽约州的奥尔巴尼市投入8.25亿美元,用于建设国家半导体威廉希尔官方网站 中心(NSTC)的核心设施。据美国商务部透露,奥尔巴尼的这一基地将特别聚焦于紫外EUV
    的头像 发表于 11-01 14:12 369次阅读

    如何成功进行微流控SU-8光刻胶的紫外曝光?

    为了成功紫外曝光并且根据所需要的分辨率,光刻掩模必须尽可能的靠近SU-8光刻胶放置,不要有任何干扰。如要这样做,可检查如下几件事。 首先,光掩模
    的头像 发表于 08-23 14:39 313次阅读

    日本大学研发出新紫外(EUV)光刻威廉希尔官方网站

    近日,日本冲绳科学威廉希尔官方网站 大学院大学(OIST)发布了一项重大研究报告,宣布该校成功研发出一种突破性的紫外EUV光刻
    的头像 发表于 08-03 12:45 1026次阅读

    替代EUV光刻,新方案公布!

    们有一个共同点,那就是它们所依赖的紫外 (EUV) 光刻威廉希尔官方网站 极其复杂、极其昂贵,而且操作成本极高。主要原因是,该系统的 13.5 纳米光的
    的头像 发表于 06-17 09:46 543次阅读

    阿斯麦(ASML)与比利时微电子(IMEC)联合打造的High-NA EUV光刻实验室正式启用

    数值孔径(HighNA)紫外(EUV)光刻威廉希尔官方网站 即将进入大批量生产阶段,预计将在2025至2026年间实现广泛应用。该实验室的核心设备是一台
    的头像 发表于 06-06 11:20 604次阅读
    阿斯麦(ASML)与比利时微电子(IMEC)联合打造的High-NA <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>实验室正式启用

    买台积电都嫌贵的光刻机,大力推玻璃基板,英特尔代工的野心和危机

    电子发烧友网报道(文/吴子鹏)此前,台积电高级副总裁张晓强在威廉希尔官方网站 研讨会上表示,“ASML最新的高数值孔径紫外光刻机(high-NA EUV)价格实在太高了,台积电目前的
    的头像 发表于 05-27 07:54 2542次阅读

    英特尔率先推出业界高数值孔径 EUV 光刻系统

    来源:Yole Group 英特尔代工已接收并组装了业界首个高数值孔径(高NA)紫外EUV光刻系统。 新设备能够大大提高下一代处理器的分辨率和功能扩展,使英特尔代工厂能够继续超越
    的头像 发表于 04-26 11:25 463次阅读

    光刻机的基本原理和核心威廉希尔官方网站

    虽然DUVL机器可以通过多重曝光威廉希尔官方网站 将线宽缩小到7-5纳米,但如果要获得更小的线宽,DUVL已经达到了极限。采用EUV作为光源的紫外光刻(EUVL)成为研究的重点,其波长为13.5纳
    发表于 04-25 10:06 3473次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>机的基本原理和核心<b class='flag-5'>威廉希尔官方网站
</b>

    阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果

    在半导体领域,威廉希尔官方网站 创新是推动整个行业向前发展的重要动力。近日,荷兰阿斯麦(ASML)公司宣布,成功打造了首台采用0.55数值孔径(NA)投影光学系统的高数值孔径(High-NA)紫外(EUV
    的头像 发表于 04-18 11:50 933次阅读
    阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>机实现突破性成果

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻
    发表于 03-21 11:31 6304次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>机的发展历程及工艺流程

    如何获得高纯度的EUV光源?EUVL光源滤波系统的主流威廉希尔官方网站 方案分析

    目前,商用EUV光刻机采用激光等离子体型-紫外(LPP-EUV)光源系统,主要由驱动激光器、液滴锡靶、收集镜组成。
    的头像 发表于 02-21 10:18 1195次阅读
    如何获得高纯度的<b class='flag-5'>EUV</b>光源?EUVL光源滤波系统的主流<b class='flag-5'>威廉希尔官方网站
</b>方案分析

    解析光刻芯片掩模的核心作用与设计

    掩模在芯片制造中起到“底片”的作用,是一类不可或缺的晶圆制造材料,在芯片封装(构筑芯片的外壳和与外部的连接)、平板显示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷电路板、微机电器件等用到光刻威廉希尔官方网站 的领域也都能见到各种
    发表于 01-18 10:25 1323次阅读
    解析<b class='flag-5'>光刻</b>芯片<b class='flag-5'>掩模</b>的核心作用与设计