作为半导体芯片生产过程中最重要的装备,光刻机一直牵动人心。事实上,制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。
光刻是半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一,而且它决定了芯片的工艺水平,常说的XXnm工艺主要是看光刻机水平,10nm工艺之后难度越来越大,光刻机也需要升级到EUV级别。
ASML副总裁Anthony Yen日前表态,如果没有EUV光刻机,那么芯片厂商是造不出7nm以下工艺芯片的。
目前ASML公司是唯一一个能生产EUV光刻机的公司,他们做出这样的表态其实也不让人意外,毕竟这是一台售价高达1.2亿欧元、约合10亿一台的高端设备,全球半导体制造厂商都要看ASML的脸色。
台积电在第一代7nm工艺上没有使用EUV光刻机,但是7nm之后的工艺就很难避开EUV光刻机了,理论上可以用多重曝光的方式制造5nm级别的芯片,但是成本、良率都是个问题,无法拒绝EUV光刻机。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
ASML
+关注
关注
7文章
718浏览量
41237 -
EUV光刻机
+关注
关注
2文章
128浏览量
15115
发布评论请先 登录
相关推荐
光刻机巨头ASML业绩暴雷,芯片迎来新一轮“寒流”?
电子发烧友网报道(文/黄山明)作为芯片制造过程中的核心设备,光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻
纳米压印光刻威廉希尔官方网站 应用在即,能否掀起芯片制造革命?
电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造,首先想到的自然是光刻机和光刻威廉希尔官方网站
。而众所周知,EUV光刻机产能有限而且成本高昂,业界一直都在探索
日本首台EUV光刻机就位
据日经亚洲 12 月 19 日报道,Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司,已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。 它将分四个阶段进行安装,
用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻威廉希尔官方网站 介绍
本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻威廉希尔官方网站
。 芯片制造:光刻威廉希尔官方网站
的演进 过去半个多世纪,摩尔定律一直推动着半导体威廉希尔官方网站
的发展,但当光刻机
今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉;三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机
1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机,加快开发1nm 芯片 据报道,三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA
发表于 10-31 10:56
•813次阅读
俄罗斯首台光刻机问世
的一部分,目前正在对其进行测试,该设备可确保生产350nm的芯片。什帕克还指出,到2026年将获得130nm的国产光刻机,下一步将是开发90nm
俄罗斯推出首台光刻机:350nm
的芯片。Shpak表示,“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒威廉希尔官方网站
生产线的一部分,目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的
Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机
在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产
据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-N
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式
发表于 03-21 11:31
•6306次阅读
2024年全球与中国7nm智能座舱芯片行业总体规模、主要企业国内外市场占有率及排名
市场分析、供应链分析、主要企业情况、市场份额、并购、扩张等
如果您有兴趣查阅详情和报价,请薇❤: chenyu-youly确认。
报告摘要
本文侧重研究全球7nm智能座舱芯片总体规模及主要厂商占有率
发表于 03-16 14:52
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
EUV 光刻机持续更新升级,未来目标在 2025 年推出 NXE:4000F 机型。 上两代 NXE 系列机型 3400C 和 3600D 分别适合 7~5、5~3 纳米节点生产,德媒 ComputerBase 因此预测 38
光刻机结构及IC制造工艺工作原理
光刻机是微电子制造的关键设备,广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中,光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
发表于 01-29 09:37
•3346次阅读
评论