日本和韩国政府之间关系开始解冻,前者宣布已部分取消了对韩国光刻胶出口的限制。日本公司已获得许可,可以向LG,三星和SK Hynix等公司提供价值为三年的光致抗蚀剂,而不必为每次装运获得批准。但是,并没有消除所有限制,从日本向韩国出口的氟化聚酰亚胺和高纯度氟化氢仍受到限制。
日本政府于今年初对向韩国出口的三种工业化学品实施了限制。从7月初开始,日本制造商在运输氟化聚酰亚胺(用于LCD和OLED),光致抗蚀剂和高纯度氟化氢(用于制造芯片,例如LSI,DRAM和NAND器件)时,必须获得单独出口的批准。由于日本公司提供的这些化学品占全球的70%-90%,因此LG,三星和SK Hynix等韩国公司没有其他实际选择。因此,贸易限制无疑使韩国和日本公司的生活更加艰难,尽管目前尚不清楚禁运政策对韩国高科技产业造成了多大伤害。
据悉,该项政策是在两国领导人会晤前发布的。
然而,与此同时,这只是恢复两国之间正常贸易关系的第一步。韩国及其高科技制造商仍受到对氟化聚酰亚胺和高纯度氟化氢的出口限制,因为这些规定仍然存在。韩国当局仍在寻求消除其余限制。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
相关推荐
光刻胶作为掩模进行干法刻蚀或是湿法腐蚀后,一般都是需要及时的去除清洗,而一些高温或者其他操作往往会导致光刻胶碳化难以去除。
发表于 11-11 17:06
•561次阅读
光刻威廉希尔官方网站
是现代微电子和纳米威廉希尔官方网站
的研发中的关键一环,而光刻胶,又是光刻威廉希尔官方网站
中的关键组成部分。随着威廉希尔官方网站
的发展,对微小、精密的结构的需求日益增强,光刻胶
发表于 11-11 10:08
•497次阅读
共读好书关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章:收藏!常用光刻胶型号资料大全,几乎包含所有芯片用光刻胶欢迎扫码添加小编微信扫码加入知识星球,领取公众号资料
发表于 11-01 11:08
•895次阅读
本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。
发表于 10-31 15:59
•423次阅读
在微流控PDMS芯片加工的过程中,需要使用烘胶台或者烤胶设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8
发表于 08-27 15:54
•308次阅读
存储时间 正胶和图形反转胶在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力,对紫外灵敏度没有任何影响
发表于 07-11 16:07
•605次阅读
根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
发表于 07-10 13:46
•955次阅读
评价一款光刻胶是否适合某种应用需要综合看这款光刻胶的特定性能,这里给出光刻胶一般特性的介绍。 1. 灵敏度 灵敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所
发表于 07-10 13:43
•724次阅读
后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影,也就是说还未闭合,PEB也可以在高于光刻胶软化温度的情况下进行。前面的文章中我们在
发表于 07-09 16:08
•1480次阅读
图形反转胶是比较常见的一种紫外光刻胶,它既可以当正胶使用又可以作为负胶使用。相比而言,负胶工艺更被人们所熟知。本文重点介绍其负
发表于 07-09 16:06
•680次阅读
我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并且,在
发表于 07-08 14:57
•1056次阅读
光刻胶按照种类可以分为正性的、负性的。正胶受到紫外光照射的部分在显影时被去除,负胶受到紫外光曝光的地方在显影后被留下。
发表于 04-24 11:37
•2996次阅读
与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶
发表于 03-20 11:36
•2638次阅读
光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
发表于 03-04 17:19
•4784次阅读
光刻胶不能太厚或太薄,需要按制程需求来定。比如对于需要长时间蚀刻以形成深孔的应用场景,较厚的光刻胶层能提供更长的耐蚀刻时间。
发表于 03-04 10:49
•713次阅读
评论