华强pcb线路板打样伊顿注入机具有改进的高倾斜吞吐量功能

伊顿注入机具有改进的高倾斜吞吐量功能
马萨诸塞州贝弗利 - 伊顿半导体设备运营部今天宣布推出一款中等电流离子注入机，可提供更高的吞吐量据该公司介绍，该产品采用伊顿公司的8250平台，8250HT设计用于0.18微米及以下工艺，具有处理能力，使其成为非常适合用于通道和排水工程植入的中电流注入器。该公司表示，第一个系统计划于3月发货。

“该工具具有无与伦比的灵活性和生产率，使其成为极具成本效益的选择，”伊顿半导体植入系统营销总监David Duff说。师。 “8250HT提供无与伦比的光束纯度，并允许IC制造商灵活地在同一系统上运行多种物种 - 因此不需要专用系统。这一点至关重要，因为铟应用的使用变得越来越重要。”

全自动串行处理系统旨在最大限度地提高生产率并最大限度地减少各种形式的污染。 8250HT采用了伊顿半导体的专利延长寿命源（ELS），可提供高源寿命和电子束电流。伊顿表示，8250HT能够提供4到3,500微安的足够电子束电流，以满足所有高倾斜，中等电流应用的机械极限。

该系统还通过处理能量范围为3至750千电子伏特的各种物种，最大限度地提高了工具的利用率。因此，伊顿公司称，不需要专门的铟工艺注入机。 8250HT实现了每小时210片晶圆的机械限制吞吐量，与批量无关，并且允许制造商达到0.5％的均匀度规格。

使用独特的角度能量过滤器实现高光束能量和化学纯度（AEF），它将光束偏转15度，并在污染物到达晶圆之前消除污染。根据Duff的说法，AEF使8250HT能够实现在减速或加速模式下工作时通常低于计量检测水平的光束能量和化学污染水平。

“通过充分利用整个种植体能量范围，这种能力为制造工艺增加了大量的灵活性，而不用担心能源污染，”他说。