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图形反转工艺用于金属层剥离的研究
研究了AZ?5214 胶的正、负转型和形成适用于剥离威廉希尔官方网站 的倒台面图形的工艺威廉希尔官方网站 。用扫描电镜和台阶仪测试制作出的光刻胶断面呈倒台面,倾角约为60°,胶厚1?4μm。得到了优化的制作倒台面结构的光刻胶图形的工艺参数:匀胶转速4 000 r / min,前烘温度100 ℃,时间60 s,曝光时间0?3 s,反转烘温度110 ℃,时间90 s,泛曝光时间2 s,显影时间50 s。用金相显微镜测试了在优化工艺参数条件下制作的光刻胶图形的分辨率,同时对图形反转机理进行了讨论。关键词:光刻;AZ?5214;剥离工艺;图形反转;断面模拟
强烈支持,初涉反转胶,需要很多的相关知识
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joannaji
diracwang
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刘纪文
4464036
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Prolith和HyperLith主要用于mask-in-stepper lithography仿真、光刻设计
有偿求助本科毕业设计指导|引线键合|封装工艺
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