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p-n结是半导体晶体中两种类型的半导体材料(p型和n型)之间的边界或界面。电子是一侧的多数载流子,空穴是另一侧的多数载流子。p-n结将二极管付诸实践,在双极结型晶体管(BJT)的操作中起着主要作用,对于研究MOSFET的功能至关重要。 P型和N型材料的表示 图1显示了两片半导体材料,如硅。p材料包含一小部分价为+3的原子,如硼,铝或镓。带有负号的圆圈是受体原子;负号是受体离子,因为它在接受电子后成为负离子 - 结合负电荷。与每个受体原子相关的是一个空穴,用正号表示。 注意: 受体原子是取代材料的常规原子但少一个价电子的原子。 正方形内的正号代表由于热搅拌(热电离)或光发射而损失电子的本征原子的更小百分比。正方形内的负号象征着释放的自由电子。 n材料包括一小部分价为+5的原子,如磷、砷或锑。带有正号的圆圈是供体原子;加号是供体离子,因为它在供体电子后变成正离子 - 结合的正电荷。负号表示由于供体原子产生的自由电子。 注意: 供体原子是配体内的原子,与配位配合物中的中心原子或离子键合。 与p材料一样,本征原子产生一些电子-空穴对。电子是正方形中的负号,空穴是正方形中的正号。 束缚电荷不能穿过晶体,因为原子核被共价键紧紧地束缚在晶格中。 两种材料,p型和n型,都是电中性的。 ![]() 图1.P型和N型材料。 多数承运人和少数承运人 P材料中的空穴和N材料中的自由电子是大多数载流子。在p材料中产生的少数自由电子和通过热搅拌,光子和其他原因在N材料中产生的少数空穴(在图1中用正方形内的符号表示)是少数载流子。 P-N结 手头有N型和P型晶体,只需机械按压即可制造p-n结。然而,这样的过程会产生较差的结果,因为它不适合制造半导体电子学中使用的微小结。获得p-n结的最佳方法是将单个半导体片的一侧掺杂为n型,将另一侧掺杂为p型。它涉及将受体杂质引入单半导体晶体的一侧,供体杂质引入另一侧。 无外部电压的P-N结 连接两片半导体材料后发生电荷再分布。图2显示了施加任何电位之前P-N结中存在的条件。空穴是p型侧的主要载流子 - 由受体原子贡献 - 和n型侧的电子 - 由供体原子贡献。 与晶格中的受体原子相关的结合负电荷中和了空穴的正电荷。P型侧还包含一些由热搅拌或光发射产生的自由电子。 类似地,与供体原子相关的结合正电荷中和了N型侧的电子负电荷。热搅拌或光发射在N型侧产生几个孔。 ![]() 图2.未施加电压的P-N结。 扩散电流 扩散是一种载体可以在固体内移动并穿过结的机制。扩散过程的基本思想是,粒子将根据其随机热运动从高度集中的区域流向邻近区域。 由于与n型侧相比,P型侧的孔浓度较高,因此一些孔通过结扩散到n型侧。穿过结后,空穴找到一个由自由电子填充的区域并立即重新组合。同样,N型侧的一些自由电子扩散到p型侧并与额外的空穴重新结合。有趣的是,任何一艘航母都没有深入对方的领域。 穿过结点的两个电流分量组合起来建立扩散电流(Id)。扩散电流方向是从P型侧到N型侧,如图2所示。 空间电荷层 载流子在交汇点两侧的重组创建了一个载流子很少的区域,称为载流子耗尽区域。在N型侧和P型侧电荷载流子中和与电离杂质原子相关的结合电荷。但是没有载流子可以中和载流子耗尽区域的束缚电荷。然后,这些束缚电荷(称为未覆盖)在结处产生偶极子电荷层。载流子耗尽区的另一个名称是空间电荷层。 作为该过程的结果,P型侧假设净负电荷,N型侧承担净正电荷。 图3显示了电荷密度ρ的一般形状。结处的空间电荷密度为零,右侧为正,左侧为负。 ![]() 图3.电荷密度ρ。 偶极子层的结果 由扩散过程产生的偶极子层从右到左建立电场,如图2所示。带正电荷的N型侧电荷吸引电子,同样,带负电荷的P型侧吸引空穴,抵消扩散过程。图4显示了由磁通线产生的负电场强度Ɛ。 ![]() 图4.电场强度Ɛ。 场强曲线与图3所示电荷密度曲线的积分成正比。 结接触电位 偶极子层产生的电场在结上产生V0的电位差。所有接触的电学异种材料都会产生这种电位差 - 称为接触电位差或接触电位。这种电位差在室温下为零点几伏——硅p-n结范围内接触电位的典型值在0.6和0.9 V之间。 连接到半导体的外部导线之间不会出现结端(V0)上的电位差,因为不可能从结点获取能量。两个外部触点中都存在接触电位。这些接触电位抵消了结端的接触电位,并且导线之间没有电位差。 潜力分布 静电势变化是图4所示函数Ɛ的负积分。图5显示了空穴的静电势变化(正电荷),图6显示了电子的变化(负电荷)。 ![]() 图5.孔的静电势。 ![]() 图6.电子的静电势(势能势垒)。 势能屏障 穿过空间电荷层的电场在带电粒子上施加力,使空穴朝低电位区域移动,电子向电位较高的区域移动。这些力反对空穴和电子的扩散。 那些可以穿过空间电荷层对抗场力的空穴和电子获得了W=q∙V0的势能。因此,只有那些垂直于结的动能高于W的载流子才会穿过空间电荷层。这个动能就是热运动能。 V0越大,载流子所需的动能越小,从而减小了扩散电流的大小。这种现象是空间电荷层中的势能势垒或势山,与载流子在结上的扩散相对。在这种情况下,扩散电流取决于势垒的高度,势垒的高度取决于空间电荷层的场强,后者取决于未覆盖的束缚电荷量。 图5显示了防止空穴通过结进一步扩散的势能势垒,图6显示了防止电子流动的势能势垒。由于空穴和电子的电荷极性相反,曲线是倒置的。 漂移电流 一些来自热电离的少数载流子扩散到空间电荷层的边缘并找到电场。该场将它们冲过层 - N型侧的空穴移动到P型侧,P型中的电子移动到结的N型侧。这两个电流分量相加产生漂移电流(Is)。漂移电流方向是从N型侧到P型侧,如图2所示。 漂移电流与山的高度无关,少数载流子通过屏障沿着山坡向下移动,在穿越交汇点时增加动能。漂移电流的大小取决于少数载流子的产生速率,并随温度呈指数增长。 均衡条件 由于多数载流子的扩散创造了潜在的山丘,因此扫过交界处的少数载流子降低了山丘的高度。当多数载流子的流量等于少数载体的流量并且 Id=Is 时,就会发生平衡条件。这个结论是合理的,因为当p-n结端子开路时,流入器件的电流为零。然后,结上的净电流必须为零,这是一个平衡条件。 注入电流和饱和电流 使用的其他名称是注入电流,用于由多数载流子扩散产生的电流和来自少数载流子的电流的饱和电流。 总结 N型和P型半导体材料在结之前是中性的。 结后,N型侧由于扩散而失去电子并获得空穴。当电子进入P型侧时,它们与大量空穴重新结合。结附近的空穴群随着许多电子填充空穴而耗尽。只要P型侧存在受体原子,就会填满空穴,并产生负离子。 同样,从P型到N型侧的空穴与结附近的自由电子重新结合。只要在N型侧存在供体原子,自由电子就会耗尽,并产生正离子。 因此,N型侧变为正,P型侧变为负。它们在结处产生足够强的电场,以抑制电子和空穴的扩散过程。 电场在空间电荷层上产生电位差。外部电路中的电流流动是不可能的,因为结处的电位接触差和外导线处的电位接触差在闭合电路中加起来的总电动势为零。在开路条件下不存在外部电流,则Id=Is。 空间电荷层的电位差起到了屏障的作用。必须克服此屏障,以便空穴扩散到N型侧,电子扩散到P型侧。因此,多数航母必须有足够的动能爬上潜在的山坡,而少数航母则不需要动能从山上掉下来。 扩散电流Id取决于载流子耗尽区域的压降V0。漂移电流值取决于温度,与电压V0无关。 |
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