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三星10nm工艺性能方面如何? 7nm工艺是极限了吗?

2018年07月22日 11:13 作者:工程师谭军 用户评论(0

三星10nm 性能方面如何?

在谈三星10nm工艺之前,我们可以先以2017年问世的骁龙835为例。2017年初问世的骁龙835,其基于三星10nm制造工艺打造,相比上一代14nm将使得芯片效率提升40%,面积得更小,速度快27%。鲁大师数据中心公布的2017年Q1季度手机综合性能排行榜中,三星S8凭借骁龙835以15万的跑分重夺性能冠军宝座。

而在骁龙835问世之前,三星宣布率先在业界实现了10纳米 FinFET工艺的量产。与上一代14纳米FinFET工艺相比,三星10纳米工艺在减少30%芯片尺寸基础上,实现性能提升27%或高达40%功耗降低。让OEM厂商能够在即将发布的产品中获得更多可用空间,以支持更大的电池或更轻薄的设计。

从外观上看,三星S8采用虚拟主屏键,分辨率2960X1440,为了提高屏幕的尺寸,同手保证较好的握持感,三星GalaxyS8系列采用了更加修长的18.5:9的屏幕比例,实现了更高的屏占比。

配置方面:三星GalaxyS8/S8+采用了5.6/6.1英寸2K全视曲面屏,10nm工艺处理器4G+64G存储,800W前置镜头,1200W后置镜头,3000/3500毫安电池,运行Android7.0系统,同时支持虹膜识别和面部识别功能,支持IP68级防水防尘功能。

至于三星S8性能提升在哪里?看看10nm工艺处理器就明白了。以骁龙835为例,其可算是今年所有安卓手机都翘首以待的旗舰芯片,首款10nm制程工艺、更强的性能、更低的功耗以及千兆级X16 LTE调制解调器等全新特性,无论哪一项都能称得上激动人心。S8系列作为三星今年安卓旗舰的代表,在配置方面自然会倾其所有。

三星自家的Exynos 8895同样采用了10nm工艺。相比以往的14nm工艺来说,性能提升了27%,但是能耗却降低了40%。Exynos 8895同样采用了八核的CPU架构,4颗高性能猫鼬核心搭配4颗低功耗Cortex-A53组成。此外三星在GPU方面也是下足了功夫,Exynos 8895上使用了Mali-G71芯片,集成了高达20亿个运算单元,功耗降低20%,性能也大幅提升。

10nm工艺处理器提供了更快的运行速度,加上三星奢华的配置,二者看起来算是量身定做,能得到10nm工艺处理器更多性能上支持,比如在音频VR性能上会有较大提升,虽然Galaxy S8的电池容量为3000mAh,但得益于10nm的工艺处理器的性能,整体续航水平超过不少4000mAh的产品。

笔者认为,10nm工艺处理器对每一款安卓机来说,都算是性能加速度引擎。然而决定一款手机综合性能,并非单纯是手机芯片,还有包括其他软硬件制约,而S8还具备千兆级的LTE调制解调器,再加上三星代工生产10nm工艺处理器,占据天时地利之便,这也是三星S8不同于其它手机的特点,有望实现性能的最大化。

不出意外,在未来几个月中,我们可以看到大量搭载10nm工艺处理器、配备双摄像头且具备光学变焦能力的新手机上市。相比之下,10nm工艺处理器更大的意义在 ISP、DSP、Codec等组件提升上,让手机有望在成像(尤其是双摄机型)、内放音质等方面提升,而这些在奢华配置的三星S8身上,性能有望得以更加完整体现。

7nm工艺是极限了吗?

先前,媒体曾报导,7nm制程工艺最逼近硅基半导体工艺的物理极限。后来,媒体又报导,7nm工艺并非半导体工艺的极限,后面还依次有5nm工艺、3nm工艺,且5nm工艺、3nm工艺并没有突破硅材料半导体工艺的极限。极限本来是一个数学术语,广义的极限指的是“无限靠近且永远不能到达”的意思。于是,既然7nm工艺后还依次有5nm工艺、3nm工艺,那么,“为什么原来说7nm工艺是半导体工艺的极限,但现在又被突破了”,更准确的说法该是,“为什么原来说7nm工艺是半导体工艺的极限,但现在却又出现了5nm工艺,3nm工艺呢”。

芯片上集成了太多太多的晶体管,晶体管的栅极控制着电流能不能从源极流向漏极,晶体管的源极和漏极之间基于硅元素连接。随着晶体管的尺寸逐步缩小,源极和漏极之间的沟道也会随之缩短,当沟道缩短到一定程度时,量子隧穿效应就会变得更加容易。晶体管便失去了开关的作用,逻辑电路也就不复存在了。2016年的时候,有媒体在网络上发布一篇文章称,“厂商在采用现有硅材料芯片的情况下,晶体管的栅长一旦低于7nm、晶体管中的电子就很容易产生量子隧穿效应,这会给芯片制造商带来巨大的挑战”。所以,7nm工艺很可能,而非一定是硅芯片工艺的物理极限。

据业内人士分析,“台积电的3nm制程,很可能才是在摩尔定律下最后的工艺节点,并且台积电的3nm工艺会是关键的转折点,以衔接1nm工艺及1nm之下的次纳米新材料工艺”。前不久,台积电的创始人兼董事长张忠谋也表示,摩尔定律在半导体行业中起码还可存续10年,这其中就包括5nm工艺、3nm工艺,而台积电会不会研发,以及能否研发出2nm工艺,则需要再等几年才能确定。

最后要说的是,即便硅基芯片终有一天非常非常地接近物理极限,人们还可以寻找到其他如采用新材料等威廉希尔官方网站 路径来驱动计算性能持续提升。

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( 发表人:金巧 )

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