（GaAs）晶圆上实现的。光电子驱动砷化镓（GaAs）晶圆市场增长GaAs晶圆已经是激光器和LED威廉希尔官方网站
领域几十年的老朋友了，主要应用有复印机、DVD播放器甚至激光指示器。近年来，LED推动了化合物半导体
2019-05-12 23:04:07
英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许
2019-07-01 07:22:23
2020年全球十大突破威廉希尔官方网站
，2018-12-28 08:11:39盘点这一年的核心威廉希尔官方网站
：22纳米光刻机、450公斤人造蓝宝石、0.12毫米玻璃、大型航天器回收、盾构机“弃壳返回”、远距离虹膜识别
2021-07-28 09:17:55
，之后经过物镜投射到曝光台，这里放的就是8寸或者12英寸晶圆，上面涂抹了光刻胶，具有光敏感性，紫外光就会在晶圆上蚀刻出电路。 而激光器负责光源产生，而光源对制程工艺是决定性影响的，随着半导体工业节点
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形，经循环往复百次后，在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域，最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻，整个流程中的一个重要步骤，其实并没有
2020-09-02 17:38:07
陆续复工并维持稳定量产，但对硅晶圆生产链的影响有限。只不过，4月之后新冠肺炎疫情造成各国管控边境及封城，半导体材料由下单到出货的物流时间明显拉长2～3倍。 库存回补力道续强 包括晶圆代工厂、IDM
2020-06-30 09:56:29
`晶圆制造总的工艺流程芯片的制造过程可概分为晶圆处理工序（Wafer Fabrication）、晶圆针测工序（Wafer Probe）、构装工序（Packaging）、测试工序（Initial
2011-12-01 15:43:10
简单的说晶圆是指拥有集成电路的硅晶片,因为其形状是圆的,故称为晶圆.晶圆在电子数码领域的运用是非常广泛的.内存条、SSD，CPU、显卡、手机内存、手机指纹芯片等等，可以说几乎对于所有的电子数码产品
2019-09-17 09:05:06
晶圆级封装威廉希尔官方网站
源自于倒装芯片。晶圆级封装的开发主要是由集成器件制造厂家（IBM）率先启动。1964年，美国IBM公司在其M360计算器中最先采用了FCOB焊料凸点倒装芯片器件。
2020-03-06 09:02:23
Plane）：图中的剖面标明了器件下面的晶格构造。此图中显示的器件边缘与晶格构造的方向是确定的。（6）晶圆切面／凹槽（Wafer flats／notche）：图中的晶圆有主切面和副切面，表示这是一个 P 型 晶向的晶圆（参见第3章的切面代码）。300毫米晶圆都是用凹槽作为晶格导向的标识。
2020-02-18 13:21:38
紫外线物质。紫外线遮断纤维是在成纤聚合物中添加反射与吸收紫外线的陶瓷粉。 2、纺织品防紫外线性能评定 根据2010年1月1日实施的最新评定标准《纺织品防紫外线性能的评定》，防紫外线产品应该在标签
2017-11-29 17:02:53
。试验可以帮助你选择新的材料，改进现有材料以及评价配方的变化是如何影响产品耐久性。紫外光循环期，光化学反应通常对温度并不敏感。但其后发生的任何反应的速率均取决于温度的高低。这些反应的速率随温度的升高而
2017-09-07 15:07:23
ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、台积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对半导体制造的关键设备之一极紫外光刻机（EUV）的关注度大幅提升。此后又有媒体
2017-11-14 16:24:44
在PIC32毫米微控制器中，弱下拉电阻和弱上拉电阻的范围是多少？谢谢您。
2020-04-17 09:51:44
高速公路系统。进行晶圆测试：使用参考电路图案和每一块芯片进行功能性测试，然后丢弃瑕疵内核。将晶圆切割成块，尺寸300毫米/12英寸，每一块就是一个处理器的内核(Die)。图为Core i7的核心。封装CPU：将
2017-05-04 21:25:46
450mm直径的晶体和450mm晶圆的制备存在的挑战性。更高密度和更大尺寸芯片的发展需要更大直径的晶圆供应。在20世纪60年代开始使用的1英寸直径的晶圆。在21世纪前期业界转向300mm（12英寸）直径的晶圆
2018-07-04 16:46:41
可以做到多小。在这个阶段，晶圆会被放入光刻机中（没错，就是ASML生产的产品），被暴露在深紫外光（DUV）下。很多时候他们的精细程度比沙粒还要小几千倍。光线会通过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统
2022-04-08 15:12:41
不同，并且男性短片将与男性短片不同，我无法理解为什么VNA不需要关于连接器性别的信息。如果我尝试使用N校准套件进行类似的操作，我必须选择测试端口的性别。我不明白为什么3.5毫米应该与N有任何不同。显然我不希望
2019-05-31 15:00:21
纳米到底有多细微？什么晶圆？如何制造单晶的晶圆？
2021-06-08 07:06:42
，由于硅晶棒是由一颗晶面取向确定的籽晶在熔融态的硅原料中逐渐生成，此过程称为“长晶”。硅晶棒再经过切段，滚磨，切片，倒角，抛光，激光刻，包装后，即成为积体电路工厂的基本原料——硅晶圆片，这就是“晶圆”。`
2011-12-01 11:40:04
半导体晶圆（晶片）的直径为4到10英寸（10.16到25.4厘米）的圆盘，在制造过程中可承载非本征半导体。它们是正（P）型半导体或负（N）型半导体的临时形式。硅晶片是非常常见的半导体晶片，因为硅
2021-07-23 08:11:27
未必能一次投影好。因此，加工过程中要将电路设计分成多个光罩，重复上面的流程，直至蚀刻完成为止。 一片晶圆的产值可大可小 我们来计算一下，顶级晶圆的直径按200毫米、一片芯片面积按100平方毫米计算，那么
2018-06-10 19:53:50
真空紫外辐射有高于共价键键能的光子能量,可在室温下激起化学反应。自上世纪80年代,基于稀有气体介质阻挡放电的准分子真空紫外光灯面世以来,真空紫外光源有了很大的发展,商业化的准分子真空紫外光灯已有上百
2010-05-06 08:56:18
`有时自己做一些PCB，闲来无事，利用紫外光LED和一个网购定时模块制作了一个曝光箱，还没进行PCB实操，放一个变色镜在上面，十几秒就变色，上图`
2018-01-30 14:47:54
这些厂商挥起了“金元大棒”。 —2019年二季度，台积电就宣布其利用EUV威廉希尔官方网站
的7nm增强版（7nm+）开始量产，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻威廉希尔官方网站
。根据台积电的发展进程来看，其
2020-02-27 10:42:16
今日分享晶圆制造过程中的工艺及运用到的半导体设备。晶圆制造过程中有几大重要的步骤：氧化、沉积、光刻、刻蚀、离子注入/扩散等。这几个主要步骤都需要若干种半导体设备，满足不同的需要。设备中应用较为广泛
2018-10-15 15:11:22
than 0.25 mm in length.裂纹 - 长度大于0.25毫米的晶圆片表面微痕。Crater - Visible under diffused illumination, a
2011-12-01 14:20:47
TEL:***回收抛光片、光刻片、晶圆片碎片、小方片、牙签料、蓝膜片回收晶圆片硅片回收/废硅片回收/单晶硅片回收/多晶硅片回收/回收太阳能电池片/半导休硅片回收
2011-04-15 18:24:29
本文介绍了一种基于AMBE-2000的紫外光语音系统设计。实验证明，紫外光语音通信系统具有低窃听率、低位辨率、全方位、高抗干扰能力、音质优、功耗低等特点。
2021-03-31 06:04:34
，则在史密斯圆图上，设备看起来像左边的点。毫不奇怪，如果我现在用* SMA母短*替换3.5毫米短片，我无法找到任何端口延伸，史密斯圆图在左边显示一个点。史密斯圆图视图（手工编辑，因为我的软件没有非常
2019-07-09 08:08:54
原文来源：如何对紫外光老化试验箱的维护保养工作小编：林频仪器 为了使紫外光老化试验箱能过能好的工作，所以我们平时一定要对其进行定期的维护和保养，这样才能让它一直处于良好的工作状态，那我们在平时
2016-09-05 15:05:57
如何用ld303毫米波雷达和树莓派去测试一种模块呢？有哪些操作流程呢？
2021-11-22 06:56:05
极短，因此分辨率与光刻相比要好的多。 因为不需要掩模板，因此对平整度的要求不高，但是电子束刻蚀很慢，而且设备昂贵。对于大多数刻蚀步骤，晶圆上层的部分位置都会通过“罩”予以保护，这种罩不能被刻蚀，这样
2017-10-09 19:41:52
【作者】：吕鹏;刘春芳;张潮海;赵永蓬;王骐;贾兴;【来源】：《强激光与粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍缩放电等离子体极紫外光源系统中的主脉冲电源,给出了主电路拓扑结构,重点介绍了三级磁
2010-04-22 11:41:29
为了跟上200毫米和300毫米晶圆需求激增的步伐，主要制造商正在全球投资新的晶圆厂从历史上看，晶圆的尺寸一直在稳步增长。从1972年的76毫米开始，最新的晶圆尺寸分别为450毫米和675毫米。晶圆
2022-07-07 11:34:54
紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境
2019-06-18 08:00:06
传感器的头是跟铁丝，铁丝头，能识别1-3毫米内的铁片
2016-04-29 08:48:05
紫外光老化试验是电子元器件，织物制品常见的测试试验，用于测试电子元器件，织物制品抵抗紫外光性能。紫外光老化试验箱是一种模拟太阳光照的光老化试验设备，它主要模拟阳光中的紫外光。同时它还可以再现雨水
2017-10-11 15:40:19
，将众多电子电路组成各式二极管、晶体管等电子组件，做在一个微小面积上，以完成某一特定逻辑功能，达成预先设定好的电路功能要求的电路系统。硅是由沙子所精练出来的，晶圆便是硅元素加以纯化（99.999
2011-12-02 14:30:44
求的越高。2、晶圆涂膜晶圆涂膜能抵抗氧化以及耐温能力，其材料为光阻的一种，3、晶圆光刻显影、蚀刻该过程使用了对紫外光敏感的化学物质，即遇紫外光则变软。通过控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片
2016-06-29 11:25:04
求的越高。2，晶圆涂膜晶圆涂膜能抵抗氧化以及耐温能力，其材料为光阻的一种，3，晶圆光刻显影、蚀刻该过程使用了对紫外光敏感的化学物质，即遇紫外光则变软。通过控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片涂上光致
2018-08-16 09:10:35
`一、照明用LED光源照亮未来 随着市场的持续增长，LED制造业对于产能和成品率的要求变得越来越高。激光加工威廉希尔官方网站
迅速成为LED制造业普遍的工具，甚者成为了高亮度LED晶圆加工的工业标准。 激光刻
2011-12-01 11:48:46
长期收购蓝膜片.蓝膜晶圆.光刻片.silicon pattern wafer. 蓝膜片.白膜片.晶圆.ink die.downgrade wafer.Flash内存.晶片.good die.废膜硅片
2016-01-10 17:50:39
光谱响应特性典型应用电路直径5毫米光敏电阻尺寸图
2022-08-09 15:17:53
典型应用电路3毫米光敏电阻尺寸图 深圳市晶创和立科技有限公司的光敏电阻是一种半导体材料制成的电阻，其电导率随着光照度的变化而变化。利用这一特性制成不同形状和受光面积的光敏电阻。光敏电阻广泛应用于玩具、灯具、照相机等行业。光敏电阻结构图
2022-08-09 18:11:53
紫外光由于具有口盲特点而使其在通信方面有着特殊的的必要性及优越性，紫外光的调制与接收是紫外光通信和其他常用通信方式的主要区别点；介绍了，紫外光通信系统的构成原
2009-07-16 10:02:36
34 Intel新款32nm CPU上市 平台产品紧随其后
Intel的32nm Clarkdale桌面处理器就已经开始出现在市面上，拔得头筹的依然是日本秋叶原。与此同时，来自Intel、
2010-01-11 09:31:39
1422 
新式半导体光刻威廉希尔官方网站
中，极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一，不过其实现难度也相当高，从上世纪八十年代开始探寻至今已经将近三十年， 仍然未能投入实用。极紫外光
2010-06-17 17:27:381470 紫外光通信及其军事应用
2017-09-01 14:49:180 纳米电子与数字威廉希尔官方网站
研发创新中心 IMEC 与美国楷登电子( Cadence) 公司联合宣布，得益于双方的长期深入合作，业界首款 3nm 测试芯片成功流片。该项目采用极紫外光刻(EUV)威廉希尔官方网站
。
2018-03-19 15:08:308347 荷兰半导体设备大厂ASML日前表示，该公司2018年将出货20套极紫外光(EUV)光刻机，该数量预期在2019年将增加到30套以上。
2018-07-27 18:34:453542 今年4月开始，台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产，苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或将会使用它制造，但仍在使用传统的深紫外光刻(DUV)威廉希尔官方网站
。
2018-10-17 15:44:564730 “ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3000万元，还要在真空下使用。”项目副总师胡松说，“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯，只要几万元一只。我们整机价格在百万元级到千万元级，加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，让很多用户大喜过望。”
2018-12-03 10:53:1212225 ASML副总裁Anthony Yen表示，ASML已开始开发极紫外（EUV）光刻机，其公司认为，一旦当今的系统达到它们的极限，就将需要使用极紫外光刻机来继续缩小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142 衡量产业发展成熟度的另一维度是论文产出量。1998年至2018年间，全球人工智能领域论文产出量最多是美国，达14.91万篇，中国以14.18万篇紧随其后，英国、德国、印度分列三至五位。
2019-01-15 17:35:544655 紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境。
2019-02-21 15:40:375540 极紫外光刻时代的大幕已拉开……
2019-02-27 13:41:11611 伴随着AMD第二代锐龙处理器的上市，400系列主板紧随其后开始全面上线，华硕TUF电竞特工系列也推出新款，命名为TUF B450M-PLUS GAMING主板。
2019-04-23 08:42:2711199 台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻威廉希尔官方网站
，意义非凡，也领先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413233 台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻威廉希尔官方网站
，意义非凡。
2019-05-28 16:18:243401 AI-Benchmark跑分网站最近公布了最新的芯片AI性能跑分榜单，紫光展锐的虎贲T710以28097分的优异成绩摘得状元之席，高通骁龙855 plus以24553分夺榜眼之位，紧随其后的是华为海思麒麟810以23944获探花之名。
2019-08-01 11:50:0611007 
8月19日消息，美国当地时间8月18日，美国数据创新中心（Center for Data Innovation）发布针对中国、美国和欧洲三大地区的人工智能发展报告，报告显示，目前美国在AI发展中仍然保持领先优势，中国紧随其后，欧盟排名第三。
2019-08-20 09:03:214494 三星宣布，位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺，这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。
2020-02-21 16:19:052214 2月14日消息，据国外媒体报道，市场研究机构Strategy Analytics发布了一份涵盖2019年智能音箱行业的新报告，报告显示，2019年，全球智能音箱出货量达到1.469亿部，同比增长70%，创下新纪录，而亚马逊仍然遥遥领先，谷歌紧随其后。
2020-03-03 11:09:07810 据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 10:50:591943 据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 14:39:545045 3月11日消息，IDC最新发布了全球2019年可穿戴市场报告。报告显示，2019年，苹果稳居全球可穿戴市场第一，小米紧随其后，成为全球第二大、国内第一大智能可穿戴品牌。三星、华为、Fitbit分列三四五位。
2020-03-12 08:59:50576 
据国外媒体报道，半导体行业光刻系统供应商ASML（阿斯麦）去年交付了26台极紫外光刻机（EUV），调查公司Omdia表示，其中约一半面向大客户台积电。ASML此前公布，2019年，共向客户交付了26
2020-04-09 11:20:062310 对于芯片制造厂商来说，光刻机的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工艺已经提升至5nm和3nm之后，极紫外光刻机就显得更为重要。而ASML作为全球唯一有能力制造极紫外光刻机的厂商，他的一举一动，牵动着所有相关产业上下游厂商的心。
2020-04-15 15:44:364093 4月17日消息，据国外媒体报道，在智能手机等高端设备芯片的工艺提升到5nm之后，能生产5nm芯片的极紫外光刻机就显得异常重要，而作为目前全球唯一能生产极紫外光刻机的厂商，阿斯麦的供应量直接决定了各大芯片制造商5nm芯片的产能。
2020-04-18 09:09:433544 据国外媒体报道，已经推出了两款极紫外光刻机的阿斯麦，正在研发第三款，计划在明年年中开始出货。
2020-10-15 16:14:111565 日前三星电子副董事长李在镕前往荷兰拜访光刻机大厂ASML，其目的就是希望ASML 的高层能答应提早交付三星已经同意购买的极紫外光光刻设备（EUV）。
2020-10-24 09:39:061509 在5nm、6nm工艺大规模投产、第二代5nm工艺即将投产的情况下，芯片代工商台积电对极紫外光刻机的需求也明显增加。而外媒最新援引产业链消息人士的透露报道称，台积电已向阿斯麦下达了2021的极紫外光刻
2020-11-17 17:20:141640 近日，据外媒报道，在芯片制程工艺方面一直落后于台积电的三星电子，目前正在寻求加强与极紫外光刻机供应商ASML的合作，以加速5nm和3nm制程的研发。
2020-11-24 14:54:522073 对于阿斯麦（ASML）来说，他们正在研发更先进的光刻机，这也是推动芯片工艺继续前行的重要动力。 ASML是全球目前唯一能制造极紫外光刻机的厂商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B和NXE
2020-12-29 11:06:572287 12月29日消息，据国外媒体报道，ASML正在研发更先进、效率更高的高数值孔径极紫外光刻机：NXE:5000系列，设计已经基本完成，预计在2022年开始商用。
2020-12-30 10:29:302159 据国外媒体报道，台积电和三星电子的芯片制程工艺，均已提升到了 5nm，更先进的工艺研发也在推进，并在谋划量产事宜。 在制程工艺提升到 5nm 之后，也就意味着台积电、三星等厂商，对极紫外光刻机的需求
2021-01-25 17:10:181352 ，对极紫外光刻机的需求会不断增加，而全球目前唯一能生产极紫外光刻机厂商的阿斯麦，也就大量供应极紫外光刻机。 英文媒体在最新的报道中表示，在芯片制程工艺方面走在行业前列的台积电，在今年预计可获得 18 台极紫外光刻机，三星和英特尔也将
2021-01-25 17:21:543321 如今全球芯片短缺，不仅仅已经严重营销到了科技数码产业，就连汽车产业也深受其害。为了满足2021年的需求激增，目前有国外媒体称台积电一口气向荷兰ASML下达了18台最先进的极紫外光刻机需求，如此之大的需求令可以说是史上的天量，三星英特尔急了。
2021-01-26 09:22:051158 对于台积电来说，他们今年依然会狂购极紫外光刻，用最先进的工艺来确保自己处于竞争的最有力地位。
2021-01-26 11:21:511137 近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻（EUV）系统的出货，至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:232588 2月2日消息，据国外媒体报道，台积电和三星电子，从阿斯麦购买了大量的极紫外光刻机，用于为苹果、高通等客户代工最新的智能手机处理器。 而从外媒的报道来看，除了台积电和三星，存储芯片制造商SK海力士
2021-02-02 18:08:482632 2月25日消息，据国外媒体报道，芯片制程工艺提升至5nm的台积电和三星，已从阿斯麦购买了大量的极紫外光刻机，并且还在大量购买。
2021-02-26 09:22:011530 紫外光通信是以大气分子和子溶胶粒子的散射和吸收为基础的。紫外光通信基于两个相互关联的物理现象：一是大气层中的臭氧对波长在200nm到280nm之间的紫外光有强烈的吸收作用，这个区域被叫做日盲区
2022-03-18 10:11:034253 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻威廉希尔官方网站
，EUV使用的是深紫外光刻威廉希尔官方网站
。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 最近，据报道，台积电将于2024年收购下一代Asmail的最新极紫外光刻设备，为客户开发相关基础设施和架构解决方案。
2022-09-20 14:23:311108 EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻威廉希尔官方网站
，简单来说，就是以极紫外光作“刀”，对芯片上的晶圆进行雕刻，让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15:024367 热点新闻 1、 ASML 阿斯麦 CEO 透露高数值孔径极紫外光刻机 2024 年开始出货 据国外媒体报道，光刻机制造商阿斯麦的 CEO 兼总裁彼得・维尼克 (Peter Wennink)，在本周
2022-11-18 19:00:033971 科学家利用选择性紫外光刻实现复合纤维材料的光纤微图案化
2022-12-22 14:58:13194 
极紫外光刻的制约因素
耗电量高极紫外线波长更短，但易被吸收，可利用率极低，需要光源提供足够大的功率。如ASML 3400B光刻机，250W的功率，每天耗电达到三万度。
生产效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 
MODEL：XT-01-UVlitho-手动版一、产品简介光刻威廉希尔官方网站
是现代半导体、微电子、信息产业的基础，是集成电路最重要的加工工艺。光刻胶在紫外光的照射下发生化学变化，通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程
2022-12-20 09:24:261211 
紫外光刻和曝光 是半导体行业生产各种高端芯片、微观电路结构的核心威廉希尔官方网站
。在紫外光刻过程中，光源发射的紫外线通过掩模上的微小透镜或光栅，然后投射到光刻胶层上，形成所需的微细图案。 长期以来
2023-07-05 10:11:241026 
。照明系统是光刻机的重要组成部分，其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向，对照明系统关键单元进行了光学设计与仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592 
实现深紫外光通信的一个关键器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高压汞灯实现，但汞灯的调制带宽非常小，这严重影响了深紫光通信的传输速率。
2023-09-05 11:13:00484 
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