了光刻剂。但重大挑战仍然存在,部分原因是去除率不足以首先在半导体制造业中使用微气泡。因此,我们需要通过明确了解微气泡去除光刻抗蚀剂层的功能机制,来提高微气泡的去除能力。本研究的目的是阐明微气泡对光刻胶层表面的影响。
2022-01-10 11:37:131396 光刻胶为何要谋求国产替代?中国国产光刻胶企业的市场发展机会和挑战如何?光刻胶企业发展要具备哪些核心竞争力?在南京半导体大会期间,徐州博康公司董事长傅志伟和研发总监潘新刚给我们带来前沿观点和独家分析。
2022-08-29 15:02:235918 传统硅半导体因自身发展侷限和摩尔定律限制,需寻找下一世代半导体材料,化合物半导体材料是新一代半导体发展的重要关键吗?
2019-04-09 17:23:3510156 电子发烧友原创 章鹰 近日,全球半导体市场规模增长带动了上游半导体材料旺盛需求,“光刻胶”的突破也成为国内关注焦点。正当日本光刻胶企业JSR、东京应化和美国Lam Research在EUV光刻胶
2022-08-31 07:45:002718 电子发烧友网报道(文/周凯扬)在上游的半导体制造产业中,除了光刻机等设备外,光刻胶、掩膜版等材料也是决定晶圆质量与良率的关键因素。就拿掩膜版来说,这个承载设计图形的材料,经过曝光后将图形信息转移到
2023-06-22 01:27:001985 我国车联网的发展现状是怎样的?未来的发展机遇有哪些?车联网是近年来很热的一个话题,虽然我国车联网还处在探索发展期,但是很多人对车联网的发展充满信心,认为我国车联网市场潜力大,将在未来几年迎来黄金期
2018-01-23 16:17:31
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻,区别如下
2021-01-12 10:17:47
,之后经过物镜投射到曝光台,这里放的就是8寸或者12英寸晶圆,上面涂抹了光刻胶,具有光敏感性,紫外光就会在晶圆上蚀刻出电路。 而激光器负责光源产生,而光源对制程工艺是决定性影响的,随着半导体工业节点
2020-07-07 14:22:55
改进;广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数[tr=transparent]光刻胶名称型号匀胶厚度规格[/tr][tr=transparent]Merck AZ 正/负可转换型光刻胶AZ
2018-07-12 11:57:08
]。光刻胶涂覆在半导体、导体和绝缘体上,经曝光显影后留下的部分对底层起保护作用,然后采用超净高纯试剂进行蚀刻,从而完成了将掩膜版图形转移到底层上的图形转移过程。一个IC的制造一般需要经过10多次图形转移
2018-08-23 11:56:31
光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的部分变得容易溶解,经过显影后被
2019-11-07 09:00:18
这是我的版图一部分,然后生成了图案是这样的: 感觉间距小的地方全都有残留,间距大的地方没有残留;工艺参数:s9920光刻胶, evg 620‘未进行蒸汽底漆层涂覆,前烘:100摄氏度,90s
2016-11-29 14:59:18
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41:23
天线:MassiveMIMO和新材料将应用5G封测:各大封测厂积极备战5G芯片化合物半导体迎来新机遇电磁屏蔽、导热材料获得新市场空间
2020-12-30 06:01:41
半导体材料市场构成:在半导体材料市场构成方面,大硅片占比最大,占比为32.9%。其次为气体,占比为14.1%,光掩膜排名第三,占比 为12.6%,其后:分别为抛光液和抛光垫、光刻胶配套试剂、光刻胶、湿化学品、建设靶材,比分别为7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。
2021-01-22 10:48:36
半导体材料从发现到发展,从使用到创新,拥有这一段长久的历史。宰二十世纪初,就曾出现过点接触矿石检波器。1930年,氧化亚铜整流器制造成功并得到广泛应用,是半导体材料开始受到重视。1947年锗点接触三极管制成,成为半导体的研究成果的重大突破。
2020-04-08 09:00:15
好像***最近去英国还专程看了华为英国公司的石墨烯研究,搞得国内好多石墨烯材料的股票大涨,连石墨烯内裤都跟着炒作起来了~~小编也顺应潮流聊聊半导体材料那些事吧。
2019-07-29 06:40:11
(个别的第三位)能存活下来。对于全球设备制造商最关键的问题是兼并市场的回报率太低。产业的发展实际上不存在带强制性理由,以及不会无故的把钱送至您手中。预计在未来半导体设备业中可能有两个领域会产生强劲
2010-02-26 14:52:33
之一摩尔曾在1965年作出预言:半导体将会得到高速发展,电子学会随之获得广泛的普及,渗透到宽广的应用领域中。从半个世纪之后再往回看,这一预言早已得到了完美印证。虽然光纤激光器优势市场潜力很大,不过
2019-05-13 05:50:35
FPGA的发展现状如何?赛灵思推出的领域目标设计平台如何简化设计、缩短开发时间?
2021-04-08 06:18:44
半导体制造领域的标志:NR9-PY 系列负性光刻胶,适用于lift-off工艺;具有高效粘附性,高反应速度并耐高温性能好。 NR71-PY 系列 负性光刻胶,适用于lift-off工艺,耐高温性能好
2010-04-21 10:57:46
宽禁带半导体材料氮化镓(GaN)以其良好的物理化学和电学性能成为继第一代元素半导体硅(Si)和第二代化合物半导体砷化镓(GaAs)、磷化镓(GaP)、磷化铟(InP)等之后迅速发展起来的第三代半导体
2019-06-25 07:41:00
SU 8光刻胶系列产品简介:新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题,十分适合于制备高深宽比微结构。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
还改变了湿蚀刻轮廓GaAs 与没有表面处理的晶片相比,反应限制蚀刻更具各向同性;简介 光刻胶的附着力对湿蚀刻的结果以及随后的电气和光学器件的产量起着关键作用。有许多因素会影响光刻胶对半导体衬底的粘附
2021-07-06 09:39:22
工艺步骤:光刻:通过在晶片表面涂上均匀的薄薄一层粘性液体(光刻胶)来定义图案的过程。光刻胶通过烘烤硬化,然后通过光穿过包含掩模信息的掩模版进行投射而选择性地去除。蚀刻:从晶片表面选择性地去除不需要的材料
2021-07-08 13:13:06
的关键。这包括使用新的材料让沉积过程变得更为精准的创新威廉希尔官方网站
。光刻胶涂覆晶圆随后会被涂覆光敏材料“光刻胶”(也叫“光阻”)。光刻胶也分为两种——“正性光刻胶”和“负性光刻胶”。正性和负性光刻胶的主要
2022-04-08 15:12:41
中国功率器件市场发展现状:功率器件包括功率 IC 和功率分立器件,功率分立器件则主要包括功率MOSFET、大功率晶体管和IGBT 等半导体器件,功率器件几乎用于所有的电子制造业,所应用的产品包括
2009-09-23 19:36:41
当今的半导体行业正在经历翻天覆地的变化,这主要是由于终端市场需求变化和重大整合引起。几十年前,业内有许多家射频公司,它们多半活跃于相同的市场,如今这种局面已被全新的市场格局所取代 - 有多个新兴市场出现,多家硅谷公司与传统芯片制造商进行重大兼并和收购。究竟有哪些因素推动着市场格局不断变化?
2019-09-02 07:55:41
应用产品,并配合国外厂商的威廉希尔官方网站
支持,共同开发适合半导体及光电产业使用的各式探针及检测耗材,主要产品有:LED耗材、LED镀锅、蒸镀机耗材料、电子枪耗材、聚昌(AST)配件、爱发科(ULVAC)配件秀
2008-08-27 10:18:39
全球FPGA市场现状和发展前景展望
当今,半导体市场格局已成三足鼎立之势,FPGA,ASIC和ASSP三分天下。市场统计数据表明,FPGA已经逐步侵蚀ASIC和ASSP的传统市场,并处于快速增长阶段
2023-11-08 17:19:01
全是海外企业,市场份额高达 60%以上,我国功率半导体国产替代进程目前仍然处于初步阶段。图:全球功率器件需求按区域分布占比来源:IDC,东兴证券研究所图:全球功率半导体市场格局来源:IHS Markit
2022-11-11 11:50:23
当今的半导体行业正在经历翻天覆地的变化,这主要是由于终端市场需求变化和重大整合引起。几十年前,业内有许多家射频公司,它们多半活跃于相同的市场,如今这种局面已被全新的市场格局所取代 - 有多个新兴市场出现,多家硅谷公司与传统芯片制造商进行重大兼并和收购。究竟有哪些因素推动着市场格局不断变化?
2021-01-15 07:46:30
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00:57
材料(单晶硅、多晶硅)产能严重不足,这已严重制约了我国半导体行业、太阳能电池行业的发展,未来几年,国家将加大这方面的投入,这将为我们的国产材料制备设备,如单晶炉、多线切割机、磨抛设备等提供广阔的市场空间
2008-08-16 23:05:04
嵌入式系统开源软件发展现状如何?
2021-04-26 06:23:33
两个国家都处在半导体的关键地位。其中,韩国位于半导体威廉希尔官方网站
俯冲带,在存储器、面板等领域投资力度巨大,日本是产业链上的核心威廉希尔官方网站
节点,半导体材料、机械设备都首屈一指。 在以上领域中,大家更关注存储器以及上游
2020-02-27 10:45:14
音频信号是什么?音频编码威廉希尔官方网站
分为哪几类?音频编码威廉希尔官方网站
有哪些应用?音频编码标准发展现状如何?数字音频编码威廉希尔官方网站
有怎样的发展趋势?
2021-04-14 07:00:14
汽车用基础电子元器件发展现状如何?国内汽车用基础电子元器件发展现状如何?汽车用基础电子元器件发展趋势是什么?
2021-05-17 06:27:16
浅析变频器发展现状和趋势(原文链接)变频器:利用电力半导体器件的通断作用将工频电源变换为另一频率的电能控制装置。其作用对象主要是电动机。分类:交—交(频率电压可变)、交—直—交(整流、逆变)性能优劣
2021-09-03 06:40:59
(etching) 经过上述工序后,以复制到光刻胶上的集成电路的图形作为掩模,对下层的材料进行腐蚀。腐蚀威廉希尔官方网站
是利用化学腐蚀法把材料的某一部分去除的威廉希尔官方网站
。腐蚀威廉希尔官方网站
分为两大类:湿法腐蚀—进行腐蚀的化学物质是溶液;干法
2019-08-16 11:11:34
掩膜图案的关键步骤。 而其中,还涉及到的材料就是光刻胶,我们要知道电路设计图首先通过激光写在光掩模板上,然后光源通过掩模板照射到附有光刻胶的硅片表面,引起曝光区域的光刻胶发生化学效应,再通过显影
2020-07-07 11:36:10
的安全可靠性,提升国际竞争力,防止电磁脉冲武器的打击,确保信息通信系统、网络系统、传输系统、武器平台等的安全畅通均具有重要的意义1_ 。鉴于电磁屏蔽材料在社会生活、经济建设和国防建设中的重要作用,其研发愈发成为人们关注的重要课题。那么电磁屏蔽材料发展现状如何了?该怎么应用?
2019-07-30 06:26:57
151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留,找不到原因。各位帮分析下
2023-04-20 13:13:52
,元素半导体指硅、锗单一元素形成的半导体,化合物指砷化镓、磷化铟等化合物形成的半导体。随着无线通信的发展,高频电路应用越来越广,今天我们来介绍适合用于射频、微波等高频电路的半导体材料及工艺情况。
2019-06-27 06:18:41
、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片、等产品进行在线颗粒监测和分析。产品优势:离线优势:PMT-2离线光刻胶微粒子计数器外接离线取样装置,可实现实验室、工厂
2022-12-14 10:44:24
PMT-2在线光刻胶液体粒子计数器,采用英国普洛帝核心威廉希尔官方网站
创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器,双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统,可以对清洗剂、半导体、超纯水
2023-01-03 15:54:49
西安半导体产业发展现状与建议:西安作为我国重要的半导体产业基地之一,在半导体人才培养、基础研究、威廉希尔官方网站
应用等领域具有显著优势。“十五”期间,国家在西安先后批准设立
2009-12-14 09:24:0625 这是一种老式的旋转涂胶机,将芯片上涂上光刻胶然后将芯片放到上边,可以通过机器的旋转的力度将光刻胶均匀分布到芯片表面,光刻胶只有均匀涂抹在芯片表面,才能保证光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3718498 本文首先介绍了SiC功率半导体器件威廉希尔官方网站
发展现状及市场前景,其次阐述了SiC功率器件发展中存在的问题,最后介绍了SiC功率半导体器件的突破。
2018-05-28 15:33:5410899 那么,半导体制造的关键原材料有哪些?半导体设备由哪些厂商占领?我国半导体产业发展现状如何?下面小编就这些问题做了相关梳理,一窥半导体产业的现状。
2018-06-07 14:12:3716561 半导体材料主要用于前端(晶圆制造)和后端(封装),其占比约为6:4。前端材料包括硅晶圆、光掩膜、光刻胶、光刻胶辅助材料、湿化学品、气体、溅射靶材料、化学机械抛光(CMP)浆、研磨垫和一些新材料
2019-01-18 17:43:224871 在国家政策与市场的双重驱动下,近年来,国内企业逐步向面板、半导体光刻胶发力……
2019-04-23 16:15:3612831 近日,日本对韩国进行出口限制,光刻胶材料赫然在列。
2019-07-15 09:28:493498 恒坤新材料是国内率先实现量供集成电路超高纯前驱体和高端光刻胶的企业,已成为国内多家高端芯片企业的材料供应商。前驱体和高端光刻胶是企业目前的两大拳头产品,填补了国内半导体先进电子材料的空白。
2019-10-12 14:50:442681 在国际半导体领域,我国虽已成为半导体生产大国,但整个半导体产业链仍比较落后。特别是由于国内光刻胶厂布局较晚,半导体光刻胶威廉希尔官方网站
相较于海外先进威廉希尔官方网站
差距较大,国产化不足5%。在这种条件下,国内半导体厂商积极开展研究,如晶瑞股份的KrF光刻胶,南大光电的ArF光刻胶均取得较好的研究效果。
2020-03-06 15:40:564165 我国半导体工业中,下游设计已经能够进入全球第一梯队,中游晶圆制造也在迎头赶上,而上游设备及材 料领域与海外龙头仍存在较大差距。以半导体材料中威廉希尔官方网站
难度最大的光刻胶为例, i 线/g 线光刻胶的产业化
2020-06-08 15:38:212936 光刻胶按应用领域分类,大致分为LCD光刻胶、PCB光刻胶(感光油墨)与半导体光刻胶等。按照下游应用来看,目前LCD光刻胶占比26.6%,刻胶占比24.5%,半导体光刻胶占比24.1%,PCB光其他类光刻胶占比24.8%。
2020-06-12 17:13:395380 半导体材料是半导体产业链的重要支撑产业,按应用环节划分为晶圆制造材料和封装材料。整个半导体产业链主要包括IC的设计、晶圆制造以及封装测试等环节,半导体材料主要应用在集成电路的制造和封装测试等领域
2020-08-31 11:39:426349 等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。依据使用场景,这里的待加工基片可以是集成电路材料,显示面板材料或者印刷电路板。 据第三方机构智研咨询统计,2019年全球光刻胶市场规模预计近90亿美元,
2020-09-15 14:00:1416535 全球光刻胶市场规模从2016 年的15 亿美元增长至2019年的18亿美元,年复合增长率达6.3%;应用方面,光刻胶主要应用在PCB、半导体及LCD显示等领域,各占约25%市场份额。
2020-09-21 11:28:043290 小编说:随着中国经济的发展和现代化、信息化的建设,我国已成为带动全球半导体市场增长的主要动力,多年来市场需求保持快速增长。 今天小编给大家带来的是集微网首席分析师韩晓敏《中国半导体产业发展现状
2020-10-10 11:33:158601 全球光刻胶市场规模从2016 年的15 亿美元增长至2019年的18亿美元,年复合增长率达6.3%;应用方面,光刻胶主要应用在PCB、半导体及LCD显示等领域,各占约25%市场份额。 国内光刻胶整体
2020-10-10 17:40:252957 光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成份组成的、对光敏感的混合液体。利用光化学反应,经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质,其中曝光是通过紫外光
2022-12-06 14:53:541238 数百道工艺的层层打磨,一颗崭新的芯片才正式诞生。 而芯片制造所需的关键设备就是光刻机,但是我们今天不谈光刻机,我们要来聊一聊光刻机中最重要的材料光刻胶。 光刻胶又称为光致抗蚀剂,它是一种对光敏感的有机化合物,受紫外光曝
2020-11-14 09:36:575407 近两年来,芯片制造成为了半导体行业发展的焦点。芯片制造离不开光刻机,而光刻威廉希尔官方网站
则是光刻机发展的重要推动力。在过去数十载的发展中,光刻威廉希尔官方网站
也衍生了多个分支,除了光刻机外,还包括光源、光学元件、光刻胶等材料设备,也形成了极高的威廉希尔官方网站
壁垒和错综复杂的产业版图。
2020-11-27 16:03:3618800 光刻胶是微纳加工过程中非常关键的材料。有专家表示,中国要制造芯片,光有光刻机还不够,还得打破国外对“光刻胶”的垄断。
2020-12-08 10:53:564168 1月19日晚,国内半导体材料公司晶瑞股份发表公告,宣称购得ASML公司光刻机一台,将用于高端光刻胶项目。
2021-01-21 09:35:512886 近期,专注于电子材料市场研究的TECHCET发布最新统计和预测数据:2021年,半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11%,达到19亿美元。
2021-03-22 10:51:125081 材料是半导体大厦的地基,不过,目前中国的这一地基对国外依存度还很高。 2019年,日韩发生冲突,日本封锁了三种关键的半导体材料,分别是氟化氢、聚酰亚胺和光刻胶。这三种材料韩国,中国都可以制造
2021-05-11 13:46:382922 按照应用领域分类,光刻胶主要包括印制电路板(PCB)光刻胶专用化学品(光引发剂和树脂)、液晶显示器(LCD)光刻胶光引发剂、半导体光刻胶光引发剂和其他用途光刻胶四大类。本文主要讨论半导体光刻胶。
2021-05-17 14:15:524011 。 信越化学之所以停止供货部分晶圆厂KrF光刻胶,与2月份日本福岛东部海域发生7.3级地震有莫大关联。地震导致信越化学KrF光刻胶产线受到很大程度的破坏,至今尚未完全恢复生产。 光刻胶是半导体制造中的关键产品,重要性毋庸置疑,现在这么多半导
2021-06-25 16:12:28784 5月27日,半导体光刻胶概念股开盘即走强,截至收盘,A股光刻胶板块涨幅达6.48%。其中晶瑞股份、广信材料直线拉升大涨20%封涨停,容大感光大涨13.28%,扬帆新材大涨11.37%,南大光电
2021-05-28 10:34:152623 。 光刻胶去除是半导体芯片制造图形化环节中的关键威廉希尔官方网站
,而光刻胶去除剂则是决定图形化最终良率及可靠性的关键材料之一。默克此次推出的“AZ® 910 去除剂”基于不含有NMP(N-甲基吡咯烷酮)的新型特制化学配方,不仅可以快速溶解残留光刻胶,同时具备超高的经济性、
2021-07-28 14:23:102646 光刻胶是光刻机研发的重要材料,换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕迹,就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281 ,据说使用光的加工早晚会达到极限。为了打破这一问题,正在研究使用更短波长的紫外线、电子射线、软X射线、离子射线等新射线源的方法。另一方面,适用于这些新辐射源的抗蚀剂材料的研究也在势力范围内进行。在此,以光刻胶为中心,对各光刻胶的现状、今后的课题进行概述。
2022-03-28 15:10:516565 本发明涉及一种去除光刻胶的方法,更详细地说,是一种半导体制造用光刻胶去除方法,该方法适合于在半导体装置的制造过程中进行吹扫以去除光刻胶。在半导体装置的制造工艺中,将残留在晶片上的光刻胶,在H2O
2022-04-13 13:56:42872 光刻胶的组成:树脂(resin/polymer),光刻胶中不同材料的粘合剂,给与光刻胶的机械与化学性质(如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂,感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(Solvent
2022-10-21 16:40:0415831 半导体光刻胶用光敏材料仍属于“卡脖子”产品,海外进口依赖较重,不同品质之间价 格差异大。以国内 PAG 对应的化学放大型光刻胶(主要是 KrF、ArF 光刻胶)来看,树脂在 光刻胶中的固含量
2022-11-18 10:07:432574 近年来,随着国内半导体材料厂商不断提升半导体产品威廉希尔官方网站
水平和研发能力,半导体材料国产化进程加速,中国市场成为全球增速最快的市场。数据显示,2021年国内半导体材料市场规模约820.16亿元,同比增长21.9%。预计2023年市场规模将增至1024.34亿元。
2023-03-12 09:57:084577 光刻胶是IC制造的核心耗材,威廉希尔官方网站
壁垒极高。根据TECHCET数据,预计2022年全球半导体光刻胶市场规模达到23亿美元,同比增长7.5%,2025年超过25亿美元。
2023-03-21 14:00:492095 湖州国资消息,宁波微芯新材料科技有限公司的半导体材料生产基地项目总投资3.5亿元人民币,用地35亩,年产1000吨的电子级光刻胶原材料(光刻胶树脂、高等级单体等核心材料)基地建设。”全部达到,预计年产值可达到约5亿元。
2023-08-21 11:18:26942 光刻是半导体加工中最重要的工艺之一,决定着芯片的性能。光刻占芯片制造时间的40%-50%,占其总成本的30%。光刻胶是光刻环节关键耗材,其质量和性能与电子器件良品率、器件性能可靠性直接相关。
2023-10-26 15:10:24360 光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻胶算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11571 近期,万润股份在接受机构调研时透露,其“年产65吨半导体用光刻胶树脂系列”项目已经顺利投入运营。该项目旨在为客户提供专业的半导体用光刻胶树脂类材料。
2023-12-12 14:02:58329 光刻胶类别的多样化,此次涨价案所涉KrF光刻胶属于高阶防护用品,也是未来各地厂家的竞争焦点。当前市场中,光刻胶主要由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学及东进半导体等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36409 光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%,是第三达应用场景。
2024-01-03 18:12:21346 光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料,是半导体制造中使用的核心电子材料之一。伴随着晶圆制造规模持续提升,中国有望承接半导体
2024-01-19 08:31:24340 光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18402 与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶则保留下来,从而形成负像。
2024-03-20 11:36:50200
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