延续7纳米制程领先优势,台积电支援极紫外光(EUV)微影威廉希尔官方网站
的7纳米加强版(7+)制程将按既定时程于3月底正式量产,而全程采用EUV威廉希尔官方网站
的5纳米制程也将在2019年第2季进入风险试产。 据了解,独家
2019-02-13 10:08:154409 的生成方式,也就是EUV光刻机的光源。 EUV光刻机的核心光源 与传统的准分子激光直接生成的DUV光源不同,EUV采用的是一台二氧化碳气体激光器,通过轰击液态锡形成等离子,从而产生13.5nm的EUV光源,传入EUV的光学系统中。这也就是我们目前最为成
2023-02-13 07:04:004326 “7纳米是很重要的节点,是生产工艺第一次转向EUV的转折点。三星和台积电都宣布了将采用EUV(极紫外光微影)威廉希尔官方网站
在7纳米,而EUV是摩尔定律能够进一步延续到5纳米以下的关键。” Gartner(中国
2017-01-19 10:15:491397 除了阻抗,还有其他问题,即EUV光掩模基础设施。光掩模是给定IC设计的主模板。面膜开发之后,它被运到制造厂。将掩模放置在光刻工具中。该工具通过掩模投射光,这又掩模在晶片上的图像。
2017-09-29 09:09:1712238 极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的威廉希尔官方网站
。
2023-06-06 11:23:54688 电子发烧友网报道(文/周凯扬)随着欧美韩等国家均已引进EUV光刻机,为其晶圆代工厂提供最先进的工艺支持,日本虽然半导体制造水平这些年来提升不大,却也计划引进EUV光刻机来打破这一困局,重回行业一流
2023-10-10 01:13:001438 电子发烧友网报道(文/周凯扬)随着双碳目标的提出,越来越多的william hill官网
开始注意到能耗问题,尤其是在半导体制造设备上。就拿我们常常提及的EUV光刻机来说,就是一个不折不扣的耗电大户,结合光刻半导体
2023-10-25 01:14:001062 ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、台积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对半导体制造的关键设备之一极紫外光刻机(EUV)的关注度大幅提升。此后又有媒体
2017-11-14 16:24:44
请问有哪些国产FPGA?
2023-12-26 12:02:25
LG-110DBK-DUV-CT - LED SMD - LIGITEK electronics co., ltd.
2022-11-04 17:22:44
LG-170DBK-DUV-CT - LED SMD - LIGITEK electronics co., ltd.
2022-11-04 17:22:44
MAX1614EUV - High-Side, n-Channel MOSFET Switch Driver Internal On/Off Latch - Maxim Integrated Products
2022-11-04 17:22:44
PE500DUV - CERMAX XENON ARC LAMPS - PerkinElmer Optoelectronics
2022-11-04 17:22:44
1、引言本文是“RFID分类研究总论”和“RFID威廉希尔官方网站
分类研究”两篇研究文章的续篇,侧重于分析研究在“RFID分类研究总论”中提出的“RFID产品分类”子项的内容。本文所采用的研究方法、立场与观点
2019-07-29 07:54:42
一、引言 本文是“RFID分类研究总论”的续篇,侧重于分析研究在“RFID分类研究总论”中提出的“RFID威廉希尔官方网站
分类研究”子项的内容。本文所采用的研究方法、立场与观点与前篇文章保持一致。从内在逻辑关系
2019-07-29 06:08:51
SI5486DUV - N-Channel 20-V (D-S) MOSFET - Vishay Siliconix
2022-11-04 17:22:44
国产有哪些FPGA入门?莱迪思半导体?高云半导体?
2023-12-05 16:05:38
,光源是ArF(氟化氩)准分子激光器,从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机,但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限,所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入极紫外光(EUV
2020-07-07 14:22:55
国产密码算法主要有哪几种?如何去使用几种公开地国产密码算法呢?
2021-11-09 08:02:32
国产FPGA正在面临挑战如何选择国产化替代FPGA产品
2021-03-02 06:30:14
CH32V307 配套国产千兆PHY芯片,全套国产。官方有没有做过适配
2022-06-16 07:08:56
谁知道国产MCU的型号,最好带CAN接口的
2019-07-08 04:37:50
目前国产led驱动芯片的质量怎么样?有没有使用国产芯片的?
2018-04-10 10:54:37
禁令约束,国产芯片的发展举步维艰,没有高端光刻机EUV我们几乎无法在芯片领域突破更高的层次。此外,由于台积电终止与华为合作,ASML禁售EUV光刻机,7nm、5nm及以上先进制程无法自研和自由供货。因此
2023-02-15 09:43:59
DUV紫外石英光纤 Polymicro旗下的DUV紫外石英光纤整体传输波段从紫外-可见光-近红外(180nm~850nm)。说明:Polymicro旗下的DUV紫外石英光纤整体传输波段从
2021-10-20 15:36:45
SolidSpec-3700/3700DUV特点高灵敏度SolidSpec-3700和3700DUV是第一台使用3个检测器的分光光度计:光电倍增管(PMT)探测器检测紫外区和可见光区,近红外
2022-07-30 16:28:56
荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源产品介绍:ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体(LPP)的EUV光源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它采用可自刷新的材料,无需中断和更换燃料盒
2023-07-05 16:06:24
荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源产品介绍:ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体(LPP)的EUV光源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它采用可自刷新的材料,无需中断和更换燃料盒
2023-07-05 16:16:48
关键威廉希尔官方网站
研究主要分布在EUV光源、EUV多层膜、超光滑抛光威廉希尔官方网站
等方面。2008年‘极大规模集成电路制造装备及成套工艺’国家科技重大专项将EUVL威廉希尔官方网站
列为下一代光刻威廉希尔官方网站
重点攻关。《中国制造2025》也将EUVL列为了集成电路制造领域的发展重点对象,并计划在2030年实现EUV光刻机的国产化。”
2017-11-15 10:13:551240 对于逻辑器件、存储器件等主流IC行业,可以利用不同威廉希尔官方网站
实现10nm以下工艺的光刻设备商只有三家:荷兰ASML–EUV(极紫外光)光刻、日本尼康–浸没式DUV(深紫外光)光刻、日本佳能–纳米压印光刻(NIL)
2018-03-24 10:10:001569 今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺,第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺,二代7nm才会上EUV光刻工艺,预计明年量产。那么存储芯片行业何时会用上EUV
2018-06-07 14:49:006059 随着威廉希尔官方网站
的发展,今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺,下一代将在2020年进入5nm工艺,2022年进入3nm工艺。目前第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺,预计到5nm工艺将会上EUV光刻工艺。
2018-08-20 17:41:491149 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产,2018年EUV光刻工艺终于商业化了,这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多威廉希尔官方网站
挑战,目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有
2018-10-30 16:28:403376 现在的EUV光刻机使用的是波长13.5nm的极紫外光,而普通的DUV光刻机使用的是193nm的深紫外光,所以升级到EUV光刻机可以大幅提升半导体工艺水平,实现7nm及以下工艺。
2018-11-01 09:44:264269 据台媒2月12日报道,为延续7纳米制程领先优势,台积电支持极紫外光(EUV)微影威廉希尔官方网站
的7nm加强版制程将按既定时间于3月底正式量产,而全程采用EUV威廉希尔官方网站
的5nm制程也将在今年第2季进入风险试产。
2019-02-16 11:11:154482 当前半导体制程微缩到10纳米节点以下,包括开始采用的7纳米制程,以及未来5纳米、3纳米甚至2纳米制程,EUV极紫外光光刻威廉希尔官方网站
已成为不可或缺的设备。藉由EUV设备导入,不仅加快生产效率、提升良率,还能
2019-07-05 15:32:482520 芯片行业从20世纪90年代开始就考虑使用13.5nm的EUV光刻(紫外线波长范围是10~400nm)用以取代现在的193nm。EUV本身也有局限,比如容易被空气和镜片材料吸收、生成高强度的EUV也很困难。
2019-10-01 17:12:007709 月初的骁龙峰会,高通发布了骁龙865、骁龙765/765G等SoC产品。两款产品除了有着集成5G基带与否的区别,制造工艺也略有不同,骁龙865采用的是成熟的台积电7nm DUV,而骁龙765系列则是交由三星7nm EUV代工。
2019-12-20 15:33:392739 月初的骁龙峰会,高通发布了骁龙865、骁龙765/765G等SoC产品。两款产品除了有着集成5G基带与否的区别,制造工艺也略有不同,骁龙865采用的是成熟的台积电7nm DUV,而骁龙765系列则是交由三星7nm EUV代工。
2019-12-20 15:48:398430 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多,三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片,台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺,苹果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多,三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片,台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺,苹果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 EUV,依靠现有的DUV(深紫外光刻)是玩不转的。 有意思的是,三星最近竟然将EUV与相对上古的10nm工艺结合,用于量产旗下首批16Gb容量的LPDDR5内存芯片。 据悉,三星的新一代内存芯片是基于第三代10nm级(1z)工艺打造,请注意16Gb容量的后缀,是Gb而不是GB,16Gb对应的其实是
2020-09-01 14:00:292234 台媒称,翔名切入台积电5nm极紫外光(EUV)光罩盒表面处理业务,与EUV光罩盒大厂接洽合作机会,以独家专利无电镀镍(ENP)表面处理威廉希尔官方网站
来提升产品良率,目前该光罩盒厂正进行评估测试,未来获台积电EUV制程指定产品入场门票机会大增。
2020-07-24 17:27:20671 与此同时, 他指出,EUV继续为ASML的客户提高产量,迄今为止,他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆,并交付了57个3400x EUV系统(3400平台是EUV生产平台)。
2020-08-14 11:20:552048 工艺制程走入10nm以下后,台积电的优势开始显现出来。在7nm节点,台积电优先确保产能,以DUV(深紫外光刻)打头阵,结果进度领先三星的7nm EUV,吃掉大量订单,奠定了巨大优势。
2020-09-02 16:00:292684 ,而DUV(深紫外光微影)设备则是创下73亿欧元的纪录。总裁暨执行长Peter Wennink 表示,2021 年的EUV 设备供应仍将因关键元件备货不足而持续吃紧。 而值得注意的是,以2020 年来
2021-02-02 12:54:47706 据估算,ASML今年下半年可能会再出货 22 台EUV设备,明年全年最多50台。据台媒DIGITIMES报导,台积电也将扩大采购 EUV 设备,抢下ASML明年超过1/3的供货,这样一来台积电明年
2020-09-29 17:26:24802 据中国台湾经济日报报道,三星(Samsung)明年可能导入极紫外光(EUV)威廉希尔官方网站
生产内存,美光(Micron)企业副总裁、中国台湾美光董事长徐国晋表示,美光不打算跟进,目前并无采用 EUV 计划
2020-10-12 09:36:181660 光刻机,在整个芯片生产制造环节,是最最最核心的设备,威廉希尔官方网站
难度极高。在全球光刻机市场,日本的尼康、佳能,和荷兰的ASML,就占据了市场90%以上份额。而最高级的EUV(极紫外光)威廉希尔官方网站
,则更是只有荷兰的ASML一家可以掌握。
2020-10-17 09:49:453450 ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499647 亿美元。 根据该协议,中芯国际将先行向ASML支持30%的预付款,余款将于产品交付时支付。 从采购金额来看,12亿美金够买十多台先进的DUV光刻机,即便是最贵的1.2亿美金一台的EUV光刻机,也能卖个10台。 根据公告显示,ASML批量采购协议的期限从原来的2018年1月
2021-03-04 17:01:472602 11月5日,世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV(极紫外光)光刻机的企业,由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻机。据悉,该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元
2020-11-13 18:16:111626 体上,三分之二的调查参与者认为这将产生积极的影响。前往EUV时,口罩的数量减少了。这是因为EUV将整个行业带回单一模式。具有多个图案的193nm浸入需要在高级节点处使用更多的掩模。
2020-11-23 14:42:091096 根据韩国媒体《Etnews》报导指出,目前全球3大DRAM存储器中尚未明确表示采用EUV极紫外光刻机的美商美光(Micron),因日前招聘网站开始征求EUV工程师,揭露美光也在进行EUV运用于DRAM先进制程,准备与韩国三星、SK海力士竞争
2020-12-25 14:33:101459 美国美光科技开始提速EUV DRAM。加入到三星电子、SK海力士等全球第一、第二EUV厂商选择的EUV阵营后,后续EUV竞争或将更为激烈。
2020-12-25 14:43:131642 呢?OFweek君根据公开资料整理出了一些原因,供读者参考。 与DUV(深紫外光)光刻机相比,EUV光刻机的吞吐量相对较低,每小时可曝光处理的晶圆数量约在120片-175片之间,威廉希尔官方网站
改进后,速度可以提升至275片每小时。但相对而言,EUV生产效率还是更高,
2021-02-14 14:05:003915 近期三星为争抢EUV设备,高层频频传出密访ASML,EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV,大家首先想到的就是ASML,ASML并不是一个家喻户晓的名字,但他却是现代威廉希尔官方网站
的关键。因为它提供了制造
2021-01-16 09:43:112542 目前,还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机,三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约,中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。
2021-01-21 08:56:184078 一提起ASML这家公司,就少不了对光刻机问题的讨论,因为截至目前,ASML仍然是全球最领先的光刻机厂商。普通的DUV光刻机就不多说了,ASML每年都能卖出去很多台,而在更先进的EUV光刻机方面,ASML更是占据了绝对垄断的地位。
2021-02-27 09:59:4214073 三星一方面在积极向唯一的EUV光刻机厂商ASML争取订单,另外一方面也在增资为EUV产业链输血。
2021-03-04 10:13:051665 可能很多网友看到这里有点蒙圈,这绕来绕去的到底是玩的什么文字游戏。这里先进行一个小科普,EUV和DUV到底有啥区别呢?EUV也就是“极深紫外线”的意思,而DUV是“深紫外线”的意思
2021-03-08 14:22:401805 ASML澄清:中芯国际批量购买光刻机,仅限DUV!近日,中芯国际与ASML达成12亿美元交易购买晶圆生产设备的消息引发关注。针对双方此次合作,有媒体报道称“除了 EUV 光刻机,中芯国际几乎可以买到
2021-03-14 09:21:343916 为什么这很重要?在引入EUV系统之前,最先进的IC是使用DUV浸没式光刻系统制造的。这些DUV系统在193nm的光波长下无法到达7nm节点,因此EUV取代了在7nm及以下节点上的DUV浸入。
2021-03-14 11:15:241634 近日,中芯国际与ASML达成12亿美元交易购买晶圆生产设备的消息引发关注。针对双方此次合作,有媒体报道称“除了 EUV 光刻机,中芯国际几乎可以买到其他所有型号的光刻机。”但是这一说法很快被ASML官方澄清,该协议与DUV光刻威廉希尔官方网站
的现有协议相关。
2021-03-15 09:30:162471 无独有偶,两位共和党议员此前曾致信拜登政府,要求其劝说荷兰政府阻止ASML出售DUV光刻机卖给中芯国际,并且还需与盟国达成协议,统一出口限制和许可权。
2021-04-29 14:36:328624 根据我们题为“ Sub 100nm光刻:市场分析和战略问题”的报告,图1显示了ASML的EUV收入(蓝线)在2020财年超过了其DUV浸没式设备的收入(红线)。根据我对2021年和2022年的预测,两者之间的差距正在扩大。
2021-05-17 15:22:061776 因此除了台积电、三星及英特尔等晶圆厂争抢EUV,后续包含美光、SK海力士也需要大量EUV设备。乘着5G普及的“顺风”,半导体微缩化需求逐步高涨,半导体厂家加速导入EUV,EUV设备成为炙手可热的产品。
2021-05-18 09:49:512182 AlGaN基深紫外发光二极管(DUV LED)凭借其工作电压低、功耗低、无污染、体积小、易于集成、直流驱动等优势,不仅替代了传统汞灯在聚合物固化、杀菌医疗、废水处理等领域的应用,而且把健康、环保
2021-06-10 16:07:20393 相比起DUV光刻机,EUV的成本更高,这也表示紫光展锐并不满足于入门市场,而是真有冲击中高端市场的想法。
2022-04-27 10:53:2627897 台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了,并且在随后的工艺迭代中,逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。
2022-05-13 14:43:202077 HVM中的EUV光刻
•背景和历史
•使用NXE的EUV光刻:3400B
•EUV生成原理
•EUV来源:架构
•现场EUV源
•电源展望
•总结
2022-06-13 14:45:450 DUV已经能满足绝大多数需求:覆盖7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的区别在光源方案。duv的光源为准分子激光,光源的波长能达到193纳米。
2022-07-06 15:56:4853569 最先进的EUV光刻机,而这也导致中国大陆的半导体产业发展缓慢,尖端威廉希尔官方网站
发展受限,而日前美方又继续向荷兰政府施压,想切断中国大陆DUV光刻机等产品的供应链,以此来打击中国大陆半导体行业的发展。 如果荷兰接受了美国的要求,中国大陆将失
2022-07-06 18:00:092937 EUV光刻机是在2018年开始出现,并在2019年开始大量交付,而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444523 目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻威廉希尔官方网站
,EUV使用的是深紫外光刻威廉希尔官方网站
。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片威廉希尔官方网站
有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099 与此同时,在ASML看来,下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战,更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了,DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶(CAR)也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:082010 根据 ASML 的说明,尽管目前整体环境呈现短期的不确定性,仍见长期在晶圆需求与产能上的健康增长。ASML 提到,各个市场的强劲增长、持续创新、更多晶圆代工厂的竞争,以及威廉希尔官方网站
主权竞争,驱动市场对于先进与成熟制程的需求,因而需要更多晶圆产能。
2022-11-15 16:04:56557 从出货量的不断增多,再到产品的更新换代。ASML尝到了EUV带给他的红利,但是ASML的首席威廉希尔官方网站
官透露EUV即将走到尽头,之后的威廉希尔官方网站
可能根本实现不了。
2023-01-30 16:31:492509 最近,因为美日荷的出口管制,有关光刻机的很多讨论又在中文媒体圈发酵。在这里,我们从semianalysis等媒体的报道,向大家展示一下备受关注的DUV光刻机的一些真相。而这一切都要从一个叫做瑞利判据的公式(如下图所示)说起。
2023-02-13 15:27:532976 需要明确什么是EUV光刻机。它是一种采用极紫外线光源进行曝光的设备。与传统的ArF光刻机相比,EUV光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的超高级别,从而实现更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 光刻机需要采用全反射光学元件,掩模需要采用反射式结构。
这些需求带来的是EUV光刻和掩模制造领域的颠覆性威廉希尔官方网站
。EUV光刻掩模的制造面临着许多挑战,包括掩模基底的低热膨胀材料的开发、零缺陷衬底抛光、多层膜缺陷检查、多层膜缺陷修复等。
2023-06-07 10:45:541012 asml是euv威廉希尔官方网站
开发的领先者。asml公司是半导体领域光刻机生产企业的领头羊,也是全球市场占有率最大的光刻机生产企业。2012年,asml推出了世界上第一个euv试制品,并于2016年推出了euv第一个商用显卡制造机asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 据悉,签署的谅解备忘录包括在比利时鲁汶设置imec测试线及asml的所有尖端光标及测量设备的服务。最新款0.55 na euv (twinscan exe:5200)、最新款0.33 na euv
2023-06-30 09:29:06268 荷兰实施半导体出口管制 ASML光刻机DUV系统需要许可证 芯片战愈演愈烈。荷兰正式实施半导体出口管制条款,这将对光刻机巨头阿斯麦(ASML)产生更多影响。ASML的EUV光刻系统在此前已经
2023-07-01 17:38:19669 新的出口管制规定将迫使ASML在出口一些先进的深紫外光刻(DUV)系统时申请出口许可证。荷兰政府在一份电子邮件声明中表示,这些措施将于9月1日生效,并于周五在荷兰官方公报上公布。
2023-07-03 16:10:07347 热点新闻 1、消息称 ASML 将向中国推出“特供版”DUV光刻机 据报道,ASML 试图规避荷兰新销售许可禁令,面向中国市场推出特别版DUV 光刻机。消息称如果该项目继续推进,中芯国际、华虹等中国
2023-07-06 16:45:01925 光刻机是半导体产业的重要设备之一。网传荷兰ASML(阿斯麦)试图规避荷兰新销售许可禁令,向中国推出特别版DUV光刻机,但ASML据报否认这一行动,并指一直都遵守所适用的法律条例。
2023-07-07 11:50:521351 DUV是深紫外线,EUV是极深紫外线。从制程工艺来看,DUV只能用于生产7nm及以上制程芯片。而只有EUV能满足7nm晶圆制造,并且还可以向5nm、3nm继续延伸。
2023-07-10 11:36:26735 随着制程工艺的进步,DRAM内存芯片也面临着CPU/GPU一样的微缩难题,解决办法就是上EUV光刻机,但是设备实在太贵,现在还要榨干DUV工艺最后一滴,DDR5内存有望实现单条1TB。
2023-07-31 17:37:07875 EUV掩膜,也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜,对于极紫外光刻(EUVL)这种先进光刻威廉希尔官方网站
至关重要。EUV光刻是一种先进威廉希尔官方网站
,用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02399 今年的大部分讨论都集中在 EUV 的下一步发展以及高数值孔径 EUV 的时间表和威廉希尔官方网站
要求上。ASML战略营销高级总监Michael Lercel表示,目标是提高EUV的能源效率,以及他们下一代高数值孔径EUV工具的开发状况。
2023-08-11 11:25:25252 根据ASML官网信息显示,该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有三款,分别是TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。
2023-09-04 16:48:351685 近20年来,EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大威廉希尔官方网站
挑战。
2023-09-14 09:45:12563 EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光,涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上,用于微芯片设计过程中的后续步骤。
2023-10-30 12:22:55615 光刻是芯片制造的重要环节。以光源波长划分,光刻机分为UV(紫外线)、DUV(深紫外线)、EUV(极紫外线),理论上7纳米及以下的先进芯片制程工艺只能通过EUV实现。
2023-11-12 11:33:14628 高数值孔径EUV 今年的大部分讨论都集中在EUV的下一步发展以及高数值孔径EUV的时间表和威廉希尔官方网站
要求上。ASML战略营销高级总监Michael Lercel表示,其目标是提高EUV的能源效率,以及下一代高数值孔径EUV工具的发展状况。
2023-11-23 16:10:27255 ,ASML光刻机的出口限制从EUV光刻机进一步下探了DUV光刻机,以及先进的沉积设备。 ASML在当地时间3月8日的声明中提到,将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统,预计这些管制措施不会对该公司已发布的2023年财务展望以及于去
2023-03-13 09:08:273189
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